[发明专利]一种半导体制程废气处理器

权利要求书

1.一种半导体制程废气处理器，其结构包括控制阀(1)、底座(2)、出口(3)、导管(4)、处理装置(5)、入口(6)、观察窗(7)、机体(8)、净化腔(9)，其特征在于：

所述导管(4)与控制阀(1)、处理装置(5)相接通，所述处理装置(5)安装在机体(8)内部，所述机体(8)上设有观察窗(7)、出口(3)，所述机体(8)与入口(6)、净化腔(9)相接通，所述净化腔(9)通过机体(8)与出口(3)相通，所述净化腔(9)固定连接在底座(2)上；

所述处理装置(5)包括有隔滤组件(51)、防回流装置(52)、导流弧板(53)、腔体(54)、输出口(55)，所述隔滤组件(51)与输出口(55)、防回流装置(52)相接，所述防回流装置(52)与导流弧板(53)相接通，所述导流弧板(53)扣接在腔体(54)上，所述腔体(54)底部设有输出口(55)，所述腔体(54)安装在机体(8)内部。

2.根据权利要求1所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述防回流装置(52)包括有波浪弹件(521)、汇集板(522)、旋转盘(523)、输气口(524)、导气叠件(525)、分流管(526)，所述波浪弹件(521)与导气叠件(525)相接，所述波浪弹件(521)与汇集板(522)、分流管(526)相连，所述汇集板(522)连接在输气口(524)上，所述输气口(524)上设有旋转盘(523)，所述分流管(526)上设有隔滤组件(51)，所述汇集板(522)与导流弧板(53)相接通。

3.根据权利要求2所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述导气叠件(525)包括有盘体(251)、分散导件(252)、连接块(253)、衔接块(254)、叶片(255)，所述盘体(251)与衔接块(254)相扣接，所述衔接块(254)与叶片(255)相连，所述叶片(255)插嵌在连接块(253)上，所述连接块(253)内部安装有分散导件(252)，所述盘体(251)与波浪弹件(521)相连接。

4.根据权利要求3所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述分散导件(252)包括有隔块(W1)、内导气口(W2)、外导气口(W3)、凸弧分板(W4)，所述隔块(W1)与外导气口(W3)、连接块(253)相接，所述外导气口(W3)与内导气口(W2)相通，所述内导气口(W2)与凸弧分板(W4)相接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述隔滤组件(51)包括有活动扣件(511)、细滤元件(512)、粗滤网(513)、壳体(514)、活性炭层(515)，所述活动扣件(511)卡接在壳体(514)上，所述活动扣件(511)与细滤元件(512)相接，所述细滤元件(512)两端分别设有粗滤网(513)、活性炭层(515)，所述壳体(514)与输出口(55)相接通，所述粗滤网(513)上设有分流管(526)。

6.根据权利要求5所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述活动扣件(511)包括有牵拉条(111)、限位块(112)、弹性件(113)、三角板(114)、拉块(115)，所述三角板(114)与牵拉条(111)、拉块(115)相连接，所述拉块(115)与细滤元件(512)相接，所述牵拉条(111)连接在弹性件(113)上，所述弹性件(113)与限位块(112)固定连接，所述限位块(112)卡接在壳体(514)内壁上。

7.根据权利要求6所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述细滤元件(512)包括有弧护板(121)、张合顶件(122)、精滤网(123)，所述弧护板(121)内部安装有张合顶件(122)，所述张合顶件(122)与精滤网(123)相接触，所述精滤网(123)两端分别设有粗滤网(513)、活性炭层(515)，所述弧护板(121)与拉块(115)相接。

8.根据权利要求7所述的一种半导体制程废气处理器，其特征在于：所述张合顶件(122)包括有限扩块(X1)、辅助板(X2)、活动夹条(X3)、支撑板(X4)，所述限扩块(X1)连接在辅助板(X2)上，所述辅助板(X2)固定连接在支撑板(X4)上，所述支撑板(X4)与活动夹条(X3)相连接，所述辅助板(X2)与弧护板(121)相接，所述支撑板(X4)与精滤网(123)相接触。