[发明专利]微色谱柱及制备方法在审
| 申请号: | 202110087284.2 | 申请日: | 2021-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN112816608A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
| 发明(设计)人: | 冯飞;陈泊鑫 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号: | G01N30/60 | 分类号: | G01N30/60 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 色谱 制备 方法 | ||
1.一种微色谱柱,其特征在于,所述微色谱柱包括:
衬底;
微沟道,所述微沟道位于所述衬底中,所述微沟道的宽度为w,所述微沟道的有效宽度为d;
椭圆微柱,所述椭圆微柱位于所述微沟道中,在沿所述微沟道的宽度方向上包括间隔排布的n列所述椭圆微柱,在沿所述微沟道的延伸方向上包括间隔排布的m行所述椭圆微柱,以构成n×m椭圆微柱阵列,且所述椭圆微柱的长轴方向与所述微沟道的延伸方向平行,所述椭圆微柱的短轴方向与所述微沟道的宽度方向平行,所述椭圆微柱的短轴长度q=(w-d)/n。
2.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:在沿所述微沟道的宽度方向上,相邻的n列所述椭圆微柱等间距排布。
3.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:在沿所述微沟道的宽度方向上,n列所述椭圆微柱之间具有不同的间距,且沿所述微沟道的中心向所述微沟道的侧壁的延伸方向上所述间距逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:在沿所述微沟道的宽度方向上,相邻的n列所述椭圆微柱的间距小于位于边缘的所述椭圆微柱与所述微沟道的侧壁间的间距。
5.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:所述微沟道的宽度w为100μm~600μm,所述微沟道的有效宽度d为50μm~300μm,所述椭圆微柱的长轴长度p为10μm~150μm,所述椭圆微柱的短轴长度q为5μm~75μm,所述椭圆微柱的长轴长度p与所述椭圆微柱的短轴长度q的比为3:2~30:1。
6.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:所述微沟道的宽度w为250μm,所述微沟道的有效宽度d为130μm,所述椭圆微柱的长轴长度p为60μm,所述椭圆微柱的短轴长度q为10μm~40μm。
7.根据权利要求1所述的微色谱柱,其特征在于:所述微沟道呈蛇形延伸;所述衬底包括硅衬底、玻璃衬底或陶瓷衬底;所述微色谱柱还包括盖板,所述盖板键合于所述衬底上且覆盖所述微沟道,所述盖板包括玻璃盖板、硅盖板或陶瓷盖板。
8.一种微色谱柱的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供衬底;
于所述衬底的表面形成图形化的掩膜层;
基于图形化的所述掩膜层刻蚀所述衬底,以于所述衬底中形成微沟道及椭圆微柱,其中,所述微沟道位于所述衬底中,所述微沟道的宽度为w,所述微沟道的有效宽度为d;所述椭圆微柱位于所述微沟道中,在沿所述微沟道的宽度方向上包括间隔排布的n列所述椭圆微柱,在沿所述微沟道的延伸方向上包括间隔排布的m行所述椭圆微柱,以构成n×m椭圆微柱阵列,且所述椭圆微柱的长轴方向与所述微沟道的延伸方向平行,所述椭圆微柱的短轴方向与所述微沟道的宽度方向平行,所述椭圆微柱的短轴长度q=(w-d)/n。
9.根据权利要求8所述的微色谱柱的制备方法,其特征在于:在沿所述微沟道的宽度方向上,相邻的n列所述椭圆微柱等间距排布;或n列所述椭圆微柱之间具有不同的间距,且沿所述微沟道的中心向所述微沟道的侧壁的延伸方向上所述间距逐渐减小。
10.根据权利要求8所述的微色谱柱的制备方法,其特征在于,还包括如下步骤:
提供盖板;
将所述盖板键合于所述衬底的表面,且所述盖板覆盖所述微沟道;
将键合后的结构进行划片处理。
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