[发明专利]一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体及其制备方法在审
申请号: | 202110086110.4 | 申请日: | 2021-01-22 |
公开(公告)号: | CN112778346A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 赖文勇;江翼;黄维 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 王路 |
地址: | 210000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 光电 材料 合成 硼酸 中间体 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体,其特征在于,该类四硼酸酯具有如下结构通式:
其中Ar选自以下基团中的一种:
其中,B、O、N、H分别为硼、氧、氮、氢原子。
2.根据权利要求1所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)氮气保护条件下,单体联硼酸频那醇酯溶解在有机溶剂中,加入钯催化剂和弱酸盐,80-140℃反应12-48h;
(2)反应结束后,冷却至室温,将反应液浓缩后用有机溶剂二氯甲烷溶解,去离子水洗,柱色谱纯化得到的化合物即为目标产物。
3.根据权利要求2所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的制备方法,其特征在于,有机溶剂包括二氧六环、甲苯、四氢呋喃、二甲苯、己烷、环己烷,钯催化剂包括[1,1’-双(二苯基膦)二茂铁]二氯化钯、醋酸钯。
4.根据权利要求2所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的制备方法,其特征在于,单体与联硼酸频那醇酯的摩尔当量比例为1:4-1:20。
5.根据权利要求2所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的制备方法,其特征在于,单体与钯催化剂的摩尔当量比例为1:0.01-1:0.2。
6.根据权利要求2所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的制备方法,其特征在于,单体与弱酸盐的摩尔当量比例为1:1-1:20。
7.根据权利要求1所述的一种用于光电材料合成的四硼酸酯中间体的应用,其特征在于,该类四硼酸酯作为中间体用于光电材料的制备,并应用于有机电致发光、有机激光、有机存储、有机储能、柔性电子领域。
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