[发明专利]一种红外光滤光片及其制备工艺

说明书

本发明公开了一种红外光滤光片及其制备工艺，基板材料的选择：选择树脂薄膜材料作为基板，并在基板中加入陶瓷粒子、蓝玻璃粒子、邻苯二胺钴络合染料和硫代双烯镍络合染料中的一种或多种；镀膜材料的选择：选择氧化硅、氢化硅、氧化锌和氧化银作为镀膜材料；基板的处理：对基板进行清洗烘干；真空蒸镀处理：将基板一侧交替蒸镀氧化硅和氢化硅，交替蒸镀的层数为20‑40层；重复步骤S4，在基板另一侧交替蒸镀氧化锌和氧化银，交替蒸镀的层数为16‑30层。本发明，在基板中加入陶瓷粒子、蓝玻璃粒子、邻苯二胺钴络合染料和硫代双烯镍络合染料，克增强滤光片的红外滤光性能；且氧化银具有很好的杀菌作用。

技术领域

本发明涉及滤光片技术领域，具体是一种红外光滤光片及其制备工艺。

背景技术

目前,红外测温，红外探测和成像广泛应用物体的3-5um和4-14um的红外辐射，为了提高探测灵敏度,必须获得高红外透过的材料。基底大多是Ge片、Si片、MgF2晶片、KCl晶片、各类红外玻璃(以硫系玻璃为代表)等其他红外镜片。基片本身透过并不能满足实际应用，一般都要加镀减反增透层，一般使用波段具高折射率及低折射率膜层相互交叠组成,常使用的低折材料有ZnS/ZnSe/SiO/YF3等，高折材料有硅/锗等，或其他型混合材料。

类金刚石碳膜(DLC)在红外区域从2um直到50um以上的极好透明性、硬度高、化学性能稳定、不怕酸碱及有机液侵蚀、防潮、且与衬底有良好的粘附性能,使它成为红外光学器件的理想保护膜，由于a-C:H膜的折射率在1.7-2.3之间，很适合用作锗红外透镜的单均匀层保护、增透膜。然而其内应力较大，同时做为低折材料与一些基底附着力不好，(例如，硫系玻璃基底与DLC；KCl基片与DLC，在折射率范围理论上讲对KCl透镜只会有减透作用，在KCl衬底上制备类金刚石碳膜比较困难)，所以，以DLC作为红外保护、增透膜，在实际运用方面一直没有一个比较好的解决方案。

远红外玻璃是以Ge、As、Se、Sb为主要元素所形成的材料玻璃(又称为硫系玻璃)，由于其特殊的结构及组分在2～14μm之间具有良好的透过率、极低的折射率温度热系数和色散性、易制备等优点，因此硫系玻璃是一种在红外方面应用很广的红外光学玻璃，已用于军工光学系统中、红外热像仪、民用车载夜视等相关领域。在现实使用中，硫系玻璃镜头的外露镜片窗口片，在正常使用中受到灰尘或风砂等外物与玻璃表面磨擦产生粗细不均划伤、划痕；直接影响到镜头的美观度及窗口片的强度，也会使红外镜片光学透过率降低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种红外光滤光片及其制备工艺，以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种红外光滤光片及其制备工艺，包括以下步骤：

S1：基板材料的选择：选择树脂薄膜材料作为基板，并在基板中加入陶瓷粒子、蓝玻璃粒子、邻苯二胺钴络合染料和硫代双烯镍络合染料中的一种或多种；

S2：镀膜材料的选择：选择氧化硅、氢化硅、氧化锌和氧化银作为镀膜材料；

S3：基板的处理：对基板进行清洗烘干；

S4：真空蒸镀处理：将基板一侧交替蒸镀氧化硅和氢化硅，交替蒸镀的层数为20-40层；

S5：重复步骤S4，在基板另一侧交替蒸镀氧化锌和氧化银，交替蒸镀的层数为16-30层。

优选的，所述步骤S1中基板的制备是将树脂薄膜材料、陶瓷粒子、蓝玻璃粒子、邻苯二胺钴络合染料和硫代双烯镍络合染料进行混合，然后通过注塑机注塑成型。

优选的，所述步骤S1中基板的厚度小于0.2mm。

优选的，所述步骤S3中基板的清洗是采用超声波设备对基板进行清洗，烘干是采用惰性气体进行烘干。

优选的，所述步骤S4中真空蒸镀采用表面真空IAD辅助蒸镀。

优选的，所述步骤S4在镀氧化硅时，需充入氧气；在镀氢化硅时，需要充入氢气。