[发明专利]用于组织治疗的孔隙率可控的装置

权利要求书

1.一种气囊装置，所述气囊装置包括：

多孔隔膜，所述多孔隔膜构造成响应于第一压力下引入流体而扩张到扩张状态，

其中，流体在第二压力以上开始灌注通过所述多孔隔膜，所述第二压力是等于或大于所述第一压力中的至少一种，以及

所述多孔隔膜构造成在小于所述第二压力的第三压力下停止灌注并且再膨胀到流体又开始灌注的第四压力，所述第四压力在所述第二压力的10％以内。

2.如权利要求1所述的气囊装置，其特征在于，所述多孔隔膜在等于或大于10个大气压的压力下开始灌注。

3.如权利要求1或2所述的气囊装置，其特征在于，所述多孔隔膜具有至少20平方米/克的微观结构表面积。

4.如权利要求中1所述的气囊装置，其特征在于，所述多孔隔膜包括ePTFE。

5.一种气囊，所述气囊包括：

多孔隔膜，所述多孔隔膜构造成灌注流体，其中所述多孔隔膜具有至少15平方米/克的微观结构表面积，

其中，所述多孔隔膜构造成响应于第一压力下引入流体而扩张到扩张状态，

其中，流体在第二压力以上开始灌注通过所述多孔隔膜，所述第二压力是等于或大于所述第一压力中的至少一种，以及

所述多孔隔膜构造成在小于所述第二压力的第三压力下停止灌注并且再膨胀到流体又开始灌注的第四压力，所述第四压力在所述第二压力的10％以内。

6.如权利要求5所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜具有至少20平方米/克的微观结构表面积。

7.如权利要求5或6所述的气囊，其特征在于，所述气囊在至少10个大气压的压力下开始灌注。

8.如权利要求5所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜包括ePTFE。

9.一种气囊，所述气囊包括：

多孔隔膜，所述多孔隔膜基本上由原纤维组成，并构造成响应于在第一压力下引入流体而膨胀到名义尺寸，

其中流体在第二压力下开始基本上灌注通过气囊，所述第二压力至少等于或大于所述第一压力，以及

所述多孔隔膜构造成在小于所述第二压力的第三压力下停止灌注并且再膨胀到流体又开始灌注的第四压力，所述第四压力在所述第二压力的10％以内，所述气囊具有最终压力，在所述最终压力下，所述多孔隔膜以等于或大于流体输送速率的一速率灌注，所述最终压力是所述气囊的最大压力。

10.如权利要求9所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜在等于或大于10千帕的压力下开始灌注。

11.如权利要求9所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜具有至少20平方米/克的微观结构表面积。

12.如权利要求9所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜包括ePTFE。

13.一种气囊，所述气囊包括：

多孔隔膜，所述多孔隔膜具有外表面并且构造成响应于在第一压力下引入流体而膨胀到名义尺寸，

其中，流体在第二压力下开始基本上灌注通过气囊，所述第二压力至少等于或大于所述第一压力；

所述多孔隔膜构造成在小于所述第二压力的第三压力下停止灌注并且再膨胀到流体又开始灌注的第四压力，所述第四压力在所述第二压力的10％以内；以及

带纹理网络，所述带纹理网络设置在所述多孔隔膜的外表面的至少一部分上，并且包括多个空隙。

14.如权利要求13所述的气囊，其特征在于，所述带纹理网络是热塑性元件的连贯的不规则网络。

15.如权利要求13所述的气囊，其特征在于，所述多孔隔膜的外表面的所述部分包括至少为35微米的Sp值。