[发明专利]一种棕色PVD膜层及其制备方法

说明书

本发明提出了一种棕色PVD膜层及其制备方法，该方法采用真空镀膜方法沉积于基材上，具体包括：对基材进行清洗；依次在基材表面镀覆底层、过渡层、颜色层，其中，底层为金属镀层、过渡层为金属的碳氮化物镀层、颜色层为金属的碳氮化物镀层。本发明的棕色PVD膜层颜色L＝45.62，a＝10.02，b＝9.54，硬度400‑402HV载荷25g，经盐雾测试48小时，人工汗酸、碱、中性测试48小时，水煮百格测试，折弯测试通过。工艺稳定性及一致性较好，膜层厚度、硬度、耐腐蚀性达到行业优秀品质。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种棕色PVD膜层及其制备方法。

背景技术

许多电子产品部件、工件外表面都应用了镀膜工艺作为装饰，以达到提升耐腐蚀性，进而延长其使用寿命。作为装饰，膜层颜色在镀膜技术中是一个关键的技术指标。如今市场上的镀膜产品颜色千篇一律，为了满足众多消费人群的不同喜好，膜层的颜色需要多元化。

现有的镀膜技术中，PVD溅射镀膜具有良好的耐磨、耐腐蚀性质，是作为外表面的最佳选择。同时，PVD溅射镀膜技术是一种环保的镀膜工艺，且所得到的膜层与基材结合力强具有良好的稳定性，应用广泛。然而现有的PVD溅射镀膜工艺所得的PVD膜层的颜色范围具有很大的局限性，棕色等很多应用需求大的颜色无法采用现有技术得到。

发明内容

有鉴于此，为了克服上述现有技术的缺陷，本发明提出了一种棕色PVD膜层及其制备方法。

具体地，所述棕色PVD膜层采用真空镀膜方法沉积于基材上，所述棕色PVD膜层的制备方法包括：

对所述基材进行清洗；

依次在所述基材表面镀覆底层、过渡层、颜色层，

其中，所述底层为金属镀层、所述过渡层为金属的碳氮化物镀层、所述颜色层为金属的碳氮化物镀层。

进一步，所述底层采用真空镀膜方法进行镀覆，制备参数为：真空度3.0-1-5.0-1Pa，采用靶材为Ti/Cr/Ni/Zr/Al/SUS316及合金，靶电流10A-30A，时间600-1800秒。

所述过渡层采用真空镀膜方法进行镀覆，制备参数为：真空度3.0^-1-5.0^-1Pa，采用靶材为Ti/Cr/Ni/Zr/Al/SUS316及合金，靶电流10A-30A，反应气体N₂/N₂+C₂H₂，时间1200-3600秒。

所述颜色层采用真空镀膜方法进行镀覆，制备参数为：真空度：2.0^-1-6.0^-1Pa，采用靶材为Ti/Cr/Ni/Zr/Al/SUS316及合金，靶电流10A-30A，反应气体N₂+C₂H₂，时间2400-4800秒。

所述“对所述基材进行清洗”包括：离子轰出、离子源清洗、金属离子清洗。

进行所述离子轰出时，参数为：真空度：8.0^-1-1.5Pa，偏压300V-1000V，占空比50％，时间10-30min。

进行所述离子源清洗时，参数为：真空度：4.0^-2-1.2^-1Pa，离子源电压800V-1800V，偏压600V-1600V，占空比50％，时间20-50min。

进行所述金属离子清洗时，参数为：真空度：6.0^-2-3.0^-1Pa，偏压100V-500V，占空比50％，采用靶材为Ti/Cr/Ni/Zr，时间10-30min。