[发明专利]一种晶圆切割方法在审

专利信息
申请号: 202110051014.6 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN112885720A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 殷泽安 申请(专利权)人: 江西译码半导体有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;B23K26/03;B23K26/38
代理公司: 深圳华奇信诺专利代理事务所(特殊普通合伙) 44328 代理人: 陈子勋
地址: 330000 江西省南昌市小*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 切割 方法
【说明书】:

本发明涉及晶圆切割技术领域,特指一种晶圆切割方法;本发明是将晶圆背面朝上放置在工作台上,激光切割头从晶圆背面向正面切割,再通过扩晶机扩晶分离;本发明通过改变激光切割的方向,再配合扩晶机加工,就可以实现晶圆快速切割的效果,同时保证产品质量。

技术领域

本发明涉及晶圆切割技术领域,特指一种晶圆切割方法。

背景技术

在半导体加工行业内,需要对半导体晶圆进行切割,即,在晶圆上沿切割道将晶圆上每一颗晶粒加以切割分离,目前,行业内通用的生产加工工艺是,采用激光切割机对晶圆进行切割,将晶圆正向放置在激光切割机上,激光从晶圆的正面沿切割道对晶圆进行切割。由于晶圆材质自身的质量原因,晶圆内部可能含有杂质,例如切割道上含有金属颗粒,杂质一般不透光,所以在切割的过程中,激光无法透过杂质,因此会出现晶圆局部未被切断的情况,而后续加工,则会导致晶圆被拉坏的情况,这样就会导致严重的质量事故,而且很多晶圆也无法再利用,也就同时造成晶圆浪费,提高制造成本,降低生产效率。即使如申请分布号为 CN 106952986 A的中国专利文献公开的“一种LED晶圆切割方法”,也没有解决前述由于晶圆内部杂质影响切割的技术问题。

因此,基于上述现有的晶圆切割方法的缺陷,需要对现有的晶圆切割方法进行改进。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足提供一种晶圆切割方法,该晶圆切割方法解决了现有的晶圆切割方法所存在的:由于晶圆内部杂质影响晶圆切割的技术缺陷。

为实现上述目的,本发明是通过以下技术方案实现的:一种晶圆切割方法,将晶圆背面朝上放置在工作台上,激光切割头从晶圆背面向正面切割,再通过扩晶机扩晶分离。

所述的激光切割头配有红外相机,红外相机的光线从晶圆背面向正面照射。

本发明的有益效果在于:通过改变激光切割的方向,再配合扩晶机加工,就可以实现晶圆快速切割的效果,同时保证产品质量。

具体实施方式

本发明晶圆切割方法包括:将晶圆背面朝上放置在工作台上,激光切割头从晶圆背面向正面切割,再通过扩晶机扩晶分离。

本发明从背面切割,即使由于杂质阻挡没有完全被切断,由于距离较小,后续通过扩晶机加工就可以很容易地将未切断的部分拉开,从而完成生产工序,实现晶圆切割。

本发明的激光切割头配有红外相机,红外相机的光线从晶圆背面向正面照射,利用红外相机来观察晶圆正面的切割道,保证切割效果。

本发明在切割前,对晶圆背面进行打磨抛光,使晶圆背面光滑,保证激光切割效果,晶圆背面为光滑平面。

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