[发明专利]一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置在审

专利信息
申请号: 202110048240.9 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN112666803A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;文仲;徐良 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B26/08
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 边缘 抑制 点阵 产生 独立 控制 并行 装置
【权利要求书】:

1.一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置,其特征在于,该装置主要包含抑制光和激发光两路光:抑制光路用于产生涡旋光阵列,核心元件有数字微镜阵列(4)、第一空间光调制器(8)和镀涡旋膜的第一微透镜阵列(13),各涡旋光光斑强度通过数字微镜阵列(4)进行独立控制,第一微透镜阵列(13)用来产生涡旋光阵列,各涡旋光的形貌和位置通过第一空间光调制器(8)进行独立调控及校准;激发光路用于产生激发光点阵,核心元件有第二空间光调制器(18)和第二微透镜阵列(22),激发光点阵通过第二微透镜阵列(22)产生,同时通过第二空间光调制器(18)对各激发光光斑位置进行微调,使其与涡旋光阵列在物镜(26)焦面精密重合,形成高质量边缘光抑制光斑阵列,可进行高通量超分辨的双光子并行直写加工。

2.如权利要求1所述基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置,其特征在于,包括抑制光光源(1)、第一扩束器(2)、第一反射镜(3)、数字微镜阵列(4)、第一凸透镜(5)、第二凸透镜(6)、第二反射镜(7)、第一空间光调制器(8)、第三凸透镜(9)、第四凸透镜(10)、第三反射镜(11)、第一方形可调光阑(12)、第一微透镜阵列(13)、第五凸透镜(14)、激发光光源(15)、第二扩束器(16)、第四反射镜(17)、第二空间光调制器(18)、第六凸透镜(19)、第七凸透镜(20)、第二方形可调光阑(21)、第二微透镜阵列(22)、第八凸透镜(23)、第一二向色镜(24)、第二二向色镜(25)、物镜(26)、精密位移台(27)、第九凸透镜(28)和CCD(29)。

抑制光光源(1)经第一扩束器(2)及第一反射镜(3)后入射到数字微镜阵列(4)上,数字微镜阵列(4)对入射光斑进行振幅调制后,再经由第一凸透镜(5)和第二凸透镜(6)组成的第一4F系统和第二反射镜(7)成像到第一空间光调制器(8)上,通过第一空间光调制器(8)对光斑进行纯相位调制,从第一空间光调制器(8)出射的光斑再依次经过由第三凸透镜(9)和第四凸透镜(10)组成的第二4F系统、第三反射镜(11)和第一方形可调光阑(12)入射到第一微透镜阵列(13)上,第一微透镜阵列(13)每个微镜入射面都镀有涡旋膜,抑制光通过第一微透镜阵列(13)后可在其焦平面上产生涡旋光阵列,该阵列随后经过第五凸透镜(14)入射到第一二向色镜(24)与激发光阵列进行合束。

激发光光源(2)经第二扩束器(16)及第四反射镜(17)后入射到第二空间光调制器(18)上,第二空间光调制器(18)对入射激发光进行相位调制,出射光斑再依次经过由第六凸透镜(19)和第七凸透镜(20)组成的第三4F系统、第二方形可调光阑(21)入射到第二微透镜阵列(22),并在第二微透镜阵列(22)焦平面产生激发光点阵,该点阵经过第八凸透镜(23)入射到第一二向色镜(24)与涡旋抑制光阵列进行合束。

合束后的激发光和涡旋抑制光先后经过第二二向色镜(25)和物镜(26),最终在物镜焦平面内精确重合,并形成具有边缘光抑制特征的光斑阵列,可进行高通量超分辨的双光子并行直写加工;刻写过程产生的荧光先后通过物镜(26)、第二二向色镜(25)和第九凸透镜(28)聚焦到CCD(29)上进行成像。

3.根据权利要求1所述基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置,其特征在于,所述的数字微镜阵列(4)将有效像素区域等分成N×N个单元,每个单元对应一个抑制光光斑,通过对每个单元所包含的m×m个微镜进行独立开关状态切换,实现各抑制光光斑强度的独立调控,从而控制各聚合区域的大小;数字微镜阵列(4)总像素数为M1×M2,M为M1和M2中的较小值,要求m×NM。

4.根据权利要求4所述基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置,其特征在于,所述的第一微透镜阵列(13)具有N×N个微透镜,且每个微透镜入射平面均镀有涡旋膜,N×N个单元光斑与各微透镜一一对应,聚焦后在第一微透镜阵列(13)焦平面产生N×N涡旋光阵列。所述的第二微透镜阵列(22)具有N×N个微透镜,各激发光单元光斑经过第二微透镜阵列(22)后在其焦平面产生N×N点阵,通过控制各入射光斑的波前可对其在第二微透镜阵列(22)焦平面的光斑位置进行微调。

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