[发明专利]一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置

权利要求书

1.一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法，其特征在于，利用激发光束阵列掩膜和抑制光虚拟掩膜生成的高通量激光聚焦入射到样品上进行超分辨激光直写；其中，所述激发光束阵列掩膜是由激发光束照射空间光调制器，空间光调制器加载计算全息图生成在空间按设计需要排列的激发光束阵列；所述抑制光虚拟掩膜是由四光束交叉干涉形成的抑制光阵列；所述四光束中，两束为垂直偏振光束，两束为水平偏振光束，每束光束的光强相同，光束半径大于10mm；同时，每束光束与法线的夹角相同且均小于90°；将一水平偏振方向的激光入射至第二激光准直扩束系统，将激光的光斑直径扩大后经第三半波片和第一偏振分光镜分束成第一透过光束和第一反射光束，第一透过光束经第四半波片和第二偏振分光镜分束生成第二透过光束和第二反射光束；第二反射光束经第一四分之一波片改变偏振方向为水平偏振方向后与第二透过光束作为两束水平偏振光束；第一反射光束经第六半波片、第四偏振分光镜分束成第三透过光束和第三反射光束，第三反射光束经第二四分之一波片改变为水平偏振方向后经半波片和经第三偏振分光镜产生垂直偏振方向的第四反射光束，和第三透过光束经第三偏振分光镜产生垂直偏振方向的第五反射光束作为两束垂直偏振光束，还包括第三全反镜、第四全反镜、第五全反镜和第一分光镜，第三全反镜位于第一四分之一玻片后方，用于将穿过第一四分之一玻片的第二反射光束反射再次穿过第一四分之一玻片改变偏振方向为水平后再次经过第二偏振反光镜透射至第一分光镜，第四全反镜和第五全反镜用于改变第二透过光束的光路方向，将第二透过光束入射至第一分光镜与经过第三偏振反光镜透射的光束呈一定角度合束，还包括第六全反镜、第七全反镜、第八全反镜和第九全反镜，第八全反镜和第九全反镜用于改变第三透过光束的光路方向将其入射至第三偏振分光镜，第七全反镜位于第二四分之一玻片后方，用于将穿过第二四分之一玻片的第三反射光束反射再次穿过第二四分之一玻片改变偏振方向为水平后再次经过第四偏振反光镜透射至第五半波片，经第六全反镜反射入射至第三偏振分光镜，四束光束两两成一定角度交叉干涉形成抑制光阵列。

2.根据权利要求1所述的一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法，其特征在于，所述激发光束阵列产生方法为：

将一水平偏振方向的激光入射至准直扩束系统，将激光的光斑直径扩大后入射至空间光调制器，由空间光调制器加载计算全息图生成在空间按设计需要排列的激发光束阵列。