[发明专利]对放射治疗系统进行规划的方法及射野布置装置

说明书

提供了一种对放射治疗系统进行规划的方法及射野布置装置。该方法包括以下步骤：对多叶准直器进行配置，使得多叶准直器的叶片运动方向和机架旋转方向垂直；将患者的所有靶区在射野方向观(BEV)上的投影沿着所述叶片的运动方向分区成多个子区；以及确定所述射线束的照射宽度，每个照射宽度与所述多个子区中的每个子区相对应。通过对靶区进行分区布野，缩小了射野中每个子野的照射范围，而且能去除由于所有靶区共享多叶准直器(MLC)叶片对而造成的靶区间正常组织受到不必要照射的情况，减少正常组织照射剂量，获得更优的剂量分布。

技术领域

本发明总体上涉及医学技术领域，更特别地，涉及一种对放射治疗系统进行规划的方法及射野布置装置。

背景技术

肿瘤患者可能会存在同时出现多个肿瘤靶区的情况，例如多发转移的情况。对于这种多靶区肿瘤，现有的照射模式主要可分为两种，一种方式是仅对这些靶区进行照射，另一种方式是在照射这些靶区的同时，照射这些靶区所处的区域，例如在照射颅内转移灶靶区的同时照射全脑。

对于第一种方式，过去多采用多中心的照射模式，即一个等中心对应一个靶区进行照射。在这种照射模式下，由于需要对每个靶区的射野进行规划，计划复杂度高；治疗时需要更换等中心治疗时间长。现多采用单等中心照射所有靶区的模式，此时，容易出现相邻靶区间共享多叶准直器(MLC)叶片对的情形，靶区之间的正常组织也可能会受到不必要的照射。

对于第二种方式，现有技术一般采用单中心同步加量处方剂量模式。当加量靶区的数量较少时，治疗计划设计难度小，针对肿瘤灶的较高处方剂量能较好地包绕靶区，且快速跌落到较低处方剂量；但当加量靶区的数量较多时，计划难度随之增加，针对加量靶区的较高处方剂量容易相互连接，使得本只需要低处方剂量的区域均受到较高剂量处方剂量的照射，极大增加了副反应的发生几率，这样的计划无法被临床所接受。

因此，若需要获得临床可接受的计划，需改进计划设计方法。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供一种对放射治疗系统进行规划的方法及射野布置装置，可针对所有靶区的照射进行规划布置射野，以有效减少正常组织照射范围、获得更优的剂量分布。

根据一示例性实施例，提供一种放射治疗系统进行规划的方法，其中，所述放射治疗系统至少包括机架和用于调整射线束照射野的多叶准直器，所述方法可包括：

对所述多叶准直器进行配置，使得多叶准直器的叶片运动方向和机架旋转方向垂直；

将患者组织的所有靶区在射野方向观(BEV)上的投影沿着所述叶片的运动方向分区成多个子区；以及

确定所述射线束输送到所述所有靶区的照射宽度，每个照射宽度与所述多个子区中的每个子区相对应。

在一种实施方式中，对所述多叶准直器进行配置可包括设置所述多叶准直器的角度以保证叶片运动方向垂直于机架旋转方向。

在一种实施方式中，将所述所有靶区沿着所述叶片的运动方向分区成多个子区可包括：以所述所有靶区在射野方向观(BEV)上的位置为参考，根据所述所有靶区的个数和/或分布将所述所有靶区分区为多个子区。

在一种实施方式中，所述方法还可包括：对治疗床的床角进行配置；然后将所述所有靶区在BEV上的投影沿着所述叶片的运行方向进行重新分区成多个子区；以及重新确定所述射线束输送到所述所有靶区的照射宽度，每个照射宽度与重新分区的多个子区中的每个子区相对应。

在一种实施方式中，所述每个照射宽度可为相对应的子区外扩一定边界后的范围所确定的宽度。

在一种实施方式中，所述放射治疗系统配置有叶片运动方向相互垂直的两个多叶准直器，对所述多叶准直器进行配置可包括使得其中一个多叶准直器的叶片运动方向垂直于机架旋转方向，所述分区成多个子区可包括将所述所有靶区沿着所述其中一个多叶准直器的叶片的运动方向进行分区。