[发明专利]一种基于多次曝光的三维场降噪的方法在审
| 申请号: | 202110038632.7 | 申请日: | 2021-01-12 |
| 公开(公告)号: | CN112950489A | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
| 发明(设计)人: | 樊天放 | 申请(专利权)人: | 辽宁省视讯技术研究有限公司 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T17/00 |
| 代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 宫建华 |
| 地址: | 113000 辽宁省抚*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 多次 曝光 三维 场降噪 方法 | ||
本发明公开了一种基于多次曝光的三维场降噪的方法,具体涉及摄像降噪技术领域,包括以下步骤:1)多次曝光成像:连续多次曝光进行图像采集,在降噪过程中对多次成像中的同一像素点进行对比,同一个像素在多次曝光下的亮度值差异度大于该像素点周围指定采样空间下亮度差异的程度可以表达为该像素点为噪点的置信度。将图片中含有噪点处的像素进行水平排布、垂直排布及亮度值的三个维度得分析。本发明采用三维场降噪将图片中含有噪点处的像素进行水平排布、垂直排布及亮度值的三个维度得分析,通过水平排布及垂直排布确定噪点位置,通过亮度值对该位置的像素点及周边设定的空间像素点进行立体建模,分析该模型从而确定对噪点的处理,达到降噪得效果。
技术领域
本发明涉及线摄像降噪技术领域,更具体地说,本发明涉及一种基于多次曝光的三维场降噪的方法。
背景技术
在照片拍摄过程中,由于热噪音,电磁干扰,芯片制造工艺缺陷等条件在影像成像中不可避免地出现噪点。
目前对噪点处理的手段主要靠后期对原始图像采用多值形态滤波器进行滤波处理,但这容易出现无法精确识别噪点并对原图像细节产生影响。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺陷,本发明的实施例提供一种基于多次曝光的三维场降噪的方法,本发明所要解决的技术问题是:目前,主要依靠滤波处理达到降噪的效果,但会出现无法精确识别噪点、降噪后会对影像细节造成影响、算法不够精准,降噪效果差的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种基于多次曝光的三维场降噪的方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)多次曝光成像:连续多次曝光进行图像采集,在降噪过程中对多次成像中的同一像素点进行对比,同一个像素在多次曝光下的亮度值差异度大于该像素点周围指定采样空间下亮度差异的程度可以表达为该像素点为噪点的置信度;
2)三维场降噪:
将图片中含有噪点处的像素进行水平排布、垂直排布及亮度值的三个维度得分析;
通过水平排布及垂直排布用来确定噪点的像素点位置;
第三维度的亮度值基于上述两个维度的值,对该位置噪点的像素点及周边设定的空间像素点进行立体建模;
通过分析该点在周围空间指定采样范围内曲面的曲率,可得到该点在本影像中的有效性,进而得知该点是否为噪点,从而确定对噪点的处理,达到降噪得效果;
3)、设立噪点抑制权重为噪点置信度和重建亮度三维场该点曲率积分值的反比函数,得到过滤滤镜。
优选的,所述步骤1)中,采用多次曝光成像,以便降噪处理时可以通过多次成像中的同一像素点进行对比,达到对噪点进行精准识别。
本发明的技术效果和优点:
1、本发明基于多次曝光的三维场降噪的方法,采用多次曝光成像连续多次曝光进行图像采集,以便降噪处理时可以通过多次成像中的同一像素点进行对比,达到对噪点进行精准识别。
2、本发明基于多次曝光的三维场降噪的方法,采用三维场降噪将图片中含有噪点处的像素进行水平排布、垂直排布及亮度值的三个维度得分析,通过水平排布及垂直排布确定噪点位置,通过亮度值对该位置的像素点及周边设定的空间像素点进行立体建模,进一步分析该模型从而确定对噪点的处理,达到降噪得效果。
附图说明
图1为本发明的非噪点3X3空间范围内像素块及三维场建模模型;
图2为本发明的噪点3X3空间范围内像素块及三维场建模模型。
具体实施方式
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