[发明专利]显示装置及其制作方法有效
申请号: | 202110036745.3 | 申请日: | 2021-01-12 |
公开(公告)号: | CN112786623B | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | 蔡振飞 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L23/00;H01L21/84;G09F9/30 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制作方法 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
基板;
封装层,所述封装层设置在所述基板上;
柔性盖板,所述柔性盖板设置在所述封装层远离所述基板的一侧;以及
所述封装层远离所述基板的一侧设有一隔离层,所述隔离层远离所述基板的一侧设有一粘合胶层;所述隔离层具有多个过孔,所述封装层、所述隔离层以及所述粘合胶层贴合形成缓冲气囊;
其中,所述隔离层的材料为导电金属,所述隔离层复用为触控电极。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括发光层,所述发光层设置在所述封装层靠近所述基板的一侧,所述发光层包括多个呈阵列排布的子像素单元;
所述隔离层对应相邻所述子像素单元之间的空隙设置。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,每一所述缓冲气囊至少覆盖一个所述子像素单元。
4.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述隔离层的材料为遮光材料。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,在垂直于所述基板的方向上,所述隔离层的厚度与所述粘合胶层的厚度的比例为2:1。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述封装层中设有第一缓冲气囊,所述柔性盖板中设有第二缓冲气囊,所述封装层与所述柔性盖板之间设有第三缓冲气囊;
所述第一缓冲气囊和所述第二缓冲气囊交错设置,所述第二缓冲气囊和所述第三缓冲气囊对应设置。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述第一缓冲气囊的体积小于所述第三缓冲气囊的体积,所述第三缓冲气囊的体积小于所述第二缓冲气囊的体积。
8.一种显示装置的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板上形成一封装层;
在所述封装层远离所述基板的一侧形成柔性盖板;
采用导电金属在所述封装层远离所述基板的一侧形成一隔离层,在所述隔离层远离所述基板的一侧形成一粘合胶层;其中,所述隔离层中设有多个过孔,所述封装层、所述隔离层以及所述粘合胶层贴合形成缓冲气囊,所述隔离层复用为触控电极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的