[发明专利]镀膜装置

说明书

本发明公开一种镀膜装置，通过在待镀膜物品的传送方向上设置跨越待镀膜物品预定停止位置的第一位置传感器，从而能够在预定的停止位置前的制动位置就开始对传送装置进行减速，使其最终停在预定的停止位置；因此待镀膜物品可以以一个较高的速度传送，到达制动位置后进行减速，避免急停，最终停留在预定停止位置附近，提高了定位的精确度，同时又提高了传送的效率；另一方面，第一位置传感器可以设置在和待镀膜物品传送路线同一高度的左右两侧，不单单只是能设置在上下两侧，故而适用范围更广。

技术领域

本发明涉及PECVD镀膜领域，特别涉及一种镀膜装置。

背景技术

目前的镀膜系统，其载板定位方式大多采用在镀膜室的上下两侧垂直的设置两个传感器，根据两个传感器光通量的变化，确定待镀膜物品是否定位到设定的位置；待镀膜物品若是以一个高速的传送速度经过传感器后，传动装置收到指令立刻停止传送，这种急停的传送方式，会导致待镀膜物品由于惯性会继续向前滑行一段距离，造成定位不准确；若是待镀膜物品以较低的运行速度传送则又会影响传送的效率；

另一方面，在等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition，简称PECVD)镀膜中，腔室内的上下两侧设有大面积的喷淋电极，占据了腔室上、下部位置的大部分空间，从而也不便于安装上下垂直设置的传感器。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种镀膜装置，旨在解决现有技术中，待镀膜物品高速传送时定位不准确、低速传送效率低，以及上下设置传感器适用范围小的问题。

为实现上述目的，本发明提出一种镀膜装置，包括：腔室、传送装置、第一位置传感器和主控模块；

所述腔室内设有镀膜组件；

所述传送装置用于将待镀膜物品传输至所述腔室进行镀膜，并将镀膜完成后的物品传输出所述腔室；

所述第一位置传感器设于相对所述腔室内的传送装置的非镀膜组件侧，且所述第一位置传感器在传输方向上跨越所述待镀膜物品在所述腔室内的预定停止位置，用于检测所述腔室内的待镀膜物品的位置；

所述主控模块分别与所述传送装置和第一位置传感器电性连接。

优选地，所述镀膜装置还包括第二位置传感器，用于检测所述待镀膜物品是否完全进入所述腔室，所述位置传感器设于相对所述腔室内的传送装置的非镀膜组件侧，且相对于所述第一位置传感器位于所述传送路径的上游，所述第二位置传感器与所述主控模块电性连接。

优选地，所述第一位置传感器为光幕传感器，所述光幕传感器的投光器和受光器分别设于所述腔室两相对的外侧壁上，两相对的外侧壁上的相应位置均设置有透光区域。

优选地，所述光幕传感器靠近所述腔室的出口，且所述光幕传感器的中心光轴与所述预定停止位置重合。

优选地，所述第二位置传感器包括成对的检测组件，所述成对的检测组件分别设于所述腔室两相对的外侧壁上，两相对的外侧壁上的相应位置设置有透光区域；

所述成对的检测组件包括：

信号收发器和信号反射板；或

信号发射器和信号接收器。

优选地，所述镀膜组件包括喷淋电极和下电极，所述喷淋电极和所述下电极分别位于所述待镀膜物品的预定停止位置的上下两侧，所述喷淋电极在所述下电极上的投影覆盖所述待镀膜物品。

优选地，所述下电极的下方设有升降装置，所述升降装置驱动所述下电极接近或远离所述待镀膜物品。

优选地，所述传送装置包括两旋转电磁线圈和转子，两所述旋转电磁线圈设于所述腔室外，所述转子设于所述腔室内，且所述转子位于两所述旋转电磁线圈之间，所述转子驱动所述待镀膜物品。