[发明专利]一种基于同步辐射Q-XAS对砷与铬的氧化还原反应速率进行监测的方法在审
申请号: | 202110032382.6 | 申请日: | 2021-01-11 |
公开(公告)号: | CN112858355A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 王小明;应虹;冯雄汉;黄巧云;刘凡 | 申请(专利权)人: | 华中农业大学 |
主分类号: | G01N23/083 | 分类号: | G01N23/083 |
代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 徐绍新 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 同步 辐射 xas 氧化 还原 反应 速率 进行 监测 方法 | ||
1.一种基于同步辐射Q-XAS对砷与铬的氧化还原反应速率进行监测的方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)将含Cr(VI)和As(III)的悬液加入到侧面以透明薄膜密封的开口反应器中,加入背景电解质后开始反应并通过透明薄膜对悬液进行X射线扫描,采集As或Cr的K-边XAS光谱,连续采集直到反应结束;
(2)将采集的光谱通过Athena软件进行预处理和线性拟合,得到目标元素形态含量随时间的变化,而后利用动力学方程对数据点进行拟合,即可得到As(III)与Cr(VI)发生氧化还原反应的速率常数,
其中,每个光谱的扫描范围为边前200eV到边后600eV,由于As的K边能量为11.869keV,因此扫描范围设定为11.67-12.47keV;由于Cr的K边能量为5.989keV,因此扫描范围设定为5.79-6.59keV,
所设置的扫描步长和时间如下所示:
2.如权利要求1所述基于同步辐射Q-XAS对砷与铬的氧化还原反应速率进行监测的方法,其特征在于:所述透明薄膜为Kapton膜。
3.如权利要求1所述基于同步辐射Q-XAS对砷与铬的氧化还原反应速率进行监测的方法,其特征在于:所述背景电解质为0.05M NaNO3。
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