[发明专利]一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板

权利要求书

1.一种量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

制作第一基板；其中，所述第一基板包括第一衬底以及依次设置在所述第一衬底上的表面处理膜和量子点膜，所述表面处理膜完全覆盖在所述第一衬底上，且所述量子点膜完全覆盖在所述表面处理膜上；

制作第二基板；其中，所述第二基板包括第二衬底以及设置在所述第二衬底上的色阻层，所述色阻层由图案化的多个色阻单元构成，且任意相邻的两个所述色阻单元之间形成有间隙；

将所述第一基板与所述第二基板相对设置，以使所述量子点膜与所述色阻层接触，其中，所述量子点膜包括第一量子点层和第二量子点层，所述第一量子点层与所述色阻单元对应设置，所述第二量子点层与所述间隙对应设置，且所述第一量子点层与所述色阻层相接触，所述第二量子点层与所述色阻层不接触；以及

将所述第二基板从所述第一基板上剥离，以使与所述色阻层接触的所述量子点膜中的所述第一量子点层转印至所述色阻层上，未与所述色阻层接触的所述第二量子点层保留在所述第一基板上；其中，所述量子点膜与所述色阻层之间的剥离力大于所述量子点膜与所述表面处理膜之间的剥离力。

2.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述将所述第二基板从所述第一基板上剥离，包括以下步骤：

将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却；以及

将冷却后的所述第二基板从所述第一基板上剥离。

3.根据权利要求2所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却，包括以下步骤：

将相对设置的所述第一基板和所述第二基板加热至预设温度，并保持所述预设温度至预设时间；其中，所述预设温度的范围为50℃至100℃，所述预设时间的范围为10分钟至60分钟；以及

将所述预设温度下的所述第一基板和所述第二基板冷却至室温。

4.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述制作第一基板，包括以下步骤：

在第一衬底上涂布形成表面处理膜；其中，所述第一衬底的材料包括硅，所述表面处理膜的材料包括十八烷基三氯硅烷或者十八烷基三氯硅烷的衍生物；以及

将量子点分散于分散介质中，并将分散有所述量子点的所述分散介质覆盖在所述表面处理膜上，以形成量子点膜；其中，所述分散介质的材料包括正己烷、正戊烷和正辛烷中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述第二衬底的材料包括聚二甲基硅氧烷或者聚二甲基硅氧烷的衍生物。

6.根据权利要求5所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，每个所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，将所述第二基板从所述第一基板上剥离之后，所述制作方法还包括以下步骤：

在所述第二基板形成有量子点膜的一侧形成水氧阻隔层，以使所述水氧阻隔层覆盖在所述第二衬底、所述色阻层的侧壁以及位于所述色阻层上的量子点膜的表面上；其中，所述水氧阻隔层的材料包括氧化硅或氮化硅。

8.根据权利要求7所述的量子点彩色滤光片的制作方法，其特征在于，形成所述水氧阻隔层之后，所述制作方法还包括以下步骤：

在所述水氧阻隔层的表面形成表面等离子体增强层；所述表面等离子体增强层的材料包括纳米Ag、Ag@SiO₂纳米材料或者Ag@TiO₂纳米材料。

9.一种显示面板，其特征在于，包括第三基板以及根据权利要求1至8任意一项所述的量子点彩色滤光片的制作方法制作得到的量子点彩色滤光片；所述量子点彩色滤光片与所述第三基板相对设置；

所述第三基板包括第三衬底以及设置在所述第三衬底上的发光层；所述量子点彩色滤光片上的量子点膜靠近所述第三基板上的所述发光层设置。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述发光层包括多个LED单元；所述第三基板还包括设置在所述第三衬底上的多个挡墙，所述多个挡墙在所述第三衬底上定义出多个开口；每个所述开口中至少设有一个所述LED单元；所述色阻层包括与所述多个开口一一对应设置的色阻单元，所述色阻单元至少部分位于对应的所述开口中。