[发明专利]振打自清洁沉淀装置

权利要求书

1.一种振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置包括沉淀池(1)和填料框架(2)，其中：

所述填料框架(2)能活动地设置于所述沉淀池(1)内，所述填料框架(2)内填充有填料(3)，所述填料框架(2)上设置有检测所述填料框架(2)位移信息的位移传感器(6)和能带动所述填料框架(2)在所述沉淀池(1)内发生振动的至少一个振打器(4)。

2.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括控制器(8)，所述控制器(8)的检测信号接收端与所述位移传感器(6)的检测信号输出端电性连接，所述控制器(8)的控制信号输出端与所述振打器(4)的控制端电性连接。

3.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括水平仪(7)，所述水平仪(7)设置于所述填料框架(2)的顶部中间位置，且所述水平仪(7)的数据显示窗口位于水面上方。

4.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述填料框架(2)与所述沉淀池(1)的内壁之间留有间隙(10)，且在所述间隙(10)的顶部位置设置有第一随动密封板(9)。

5.如权利要求4所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述第一随动密封板(9)为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第一随动密封板(9)采用弹性材料制成，所述第一随动密封板(9)的一端与所述填料框架(2)的顶部连接，所述第一随动密封板(9)的另一端与所述沉淀池(1)的内壁抵接。

6.如权利要求4所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述间隙(10)的底部位置设置有第二随动密封板(15)。

7.如权利要求6所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述第二随动密封板(15)为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第二随动密封板(15)采用弹性材料制成，所述第二随动密封板(15)的一端与所述填料框架(2)的底部连接，所述第二随动密封板(15)的另一端与所述沉淀池(1)的内壁抵接。

8.如权利要求1或4所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述沉淀池(1)的下部内壁上设置有对所述填料框架(2)的下移位置进行限位的第一限位挡板(14)；所述沉淀池(1)的顶部设置有对所述填料框架(2)的上移位置进行限位的第二限位挡板(13)。

9.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括第一浮筒(11)，所述第一浮筒(11)设置于所述填料框架(2)的顶部。

10.如权利要求1或9所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括第二浮筒(12)，所述第二浮筒(12)设置于所述填料框架(2)的底部。

11.如权利要求2所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述填料框架(2)上设置有重量传感器(5)，所述重量传感器(5)的检测信号输出端与所述控制器(8)的检测信号接收端电性连接。

12.如权利要求11所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括第一弹簧(17)和第一支架(16)，所述第一支架(16)设置于所述沉淀池(1)的顶部，所述第一弹簧(17)的一端与所述第一支架(16)连接，所述第一弹簧(17)的另一端与所述填料框架(2)的顶部连接，所述重量传感器(5)设置于所述第一支架(16)上。

13.如权利要求12所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述位移传感器(6)设置于所述第一支架(16)与所述填料框架(2)的顶部之间。