[发明专利]一种直拉单晶硅生产用的引晶装置及引晶方法在审
申请号: | 202110026220.1 | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN112831831A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 詹玉峰;陈跃华;方勇华 | 申请(专利权)人: | 浙江旭盛电子有限公司 |
主分类号: | C30B15/30 | 分类号: | C30B15/30;C30B29/06 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 虞乘乘 |
地址: | 324300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 生产 装置 方法 | ||
1.一种直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:包括引晶箱(1),所述引晶箱(1)上安装有下料漏斗(11),所述引晶箱(1)内底部安装有加热座(14),所述加热座(14)的顶部安装有坩埚(15),所述下料漏斗(11)的出料口正对坩埚(15)的进口处,所述引晶箱(1)的正上方安装有引晶机构(2),所述引晶机构(2)包括两个对称嵌设于引晶箱(1)内壁上的升降气缸(21),每个所述升降气缸(21)的活塞杆顶部安装有固定杆(23),两个固定杆(23)之间安装有单晶硅夹头(24),所述单晶硅夹头(24)的底部安装有单晶硅(25),所述单晶硅(25)与单晶硅夹头(24)卡接配合。
2.根据权利要求1所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述下料漏斗(11)的顶部外侧开设有若干均匀等距呈环状排列的固定孔(12),所述引晶箱(1)的顶部位于下料漏斗(11)的外侧设置有卡紧机构(13)。
3.根据权利要求2所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述卡紧机构(13)包括卡板(131),所述卡板(131)的一端设置有销轴(133),所述销轴(133)的底部穿过卡板(131)且与固定孔(12)卡接配合,所述卡板(131)的另一端与引晶箱(1)的顶部通过第一铰链(132)铰接。
4.根据权利要求1所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述固定杆(23)与升降气缸(21)活塞杆的顶部之间通过卡接机构(22)连接。
5.根据权利要求4所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述卡接机构(22)包括固定架(221),所述固定架(221)的顶部紧密焊接有下卡环(222),所述下卡环(222)的顶部设置有上卡环(223),所述上卡环(223)的一侧通过第二铰链(2231)与下卡环(222)铰接。
6.根据权利要求5所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述上卡环(223)和下卡环(222)的另一侧紧密焊接有卡接板(2232),所述卡接板(2232)通过螺栓(2233)固定连接。
7.根据权利要求1所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述下料漏斗(11)的顶部安装有密封盖(16),所述密封盖(16)的顶部中心开设有与所述单晶硅夹头(24)直径尺寸相适配的通孔。
8.根据权利要求1所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:所述下料漏斗(11)的出口孔径与所述单晶硅夹头(24)直径尺寸相适配。
9.一种直拉单晶硅生产用的引晶方法,包括权利要求1-8任意一项所述的直拉单晶硅生产用的引晶装置,其特征在于:具体包括如下步骤:
S1:在坩埚(15)的内壁喷涂上厚度90-110μm的氮化硅涂层;
S2:把高纯度的多晶硅原料放入坩埚(15);
S3:通过加热座(14)产生的高温将其熔化;
S4:再将单晶硅夹头(24)底端的单晶硅(25)插入坩埚(15)内部;
S5:待单晶硅(25)与多晶硅原料熔和后,通过升降气缸(21)工作带动固定杆(23)向上移动,进而带动单晶硅(25)慢慢向上拉,晶体便会在硅单晶体的下端生长;
S6:控制晶体生长出一段长为100mm左右、直径为3-5mm的细颈,得到直拉单晶硅。
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