[发明专利]一种工频非对称正负电压的电源电路在审
申请号: | 202110025428.1 | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN112725859A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王连可;李昊旻;雷厉;高宇飞 | 申请(专利权)人: | 西比里电机技术(苏州)有限公司 |
主分类号: | C25D11/04 | 分类号: | C25D11/04;C25D11/02;C25D11/18;C25D17/00;H02M9/06 |
代理公司: | 江苏昆成律师事务所 32281 | 代理人: | 刘尚轲 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工频非 对称 正负 电压 电源 电路 | ||
本申请提供一种工频非对称正负电压的电源电路,采用控制功率半导体的通断方式和时间,来控制工频非对称正负电压的波形,能耗低、生产效率高,且陶瓷膜厚度增加,所述工频非对称正负电压的电源电路,包括回路a、回路b和回路c,回路a、回路b与回路c串联,回路a、回路b和回路c均包括一个开关S0、可控硅SCR1、可控硅SCR2、电镀槽E和电镀槽F,通过控制可控硅SCR1和可控硅SCR2的通断方式及时间,来控制工频非对称正负电压的波形,开关S0保持闭合,0‑t1时间段内,可控硅SCR1和可控硅SCR2都断开,t1‑t2时间段内,可控硅SCR1闭合、可控硅SCR2保持断开,t2‑t3时间段内,可控硅SCR1和可控硅SCR2都断开,t3‑t4时间段内,可控硅SCR1断开、可控硅SCR2,完成一个波形周期,依此循环。
技术领域
本发明涉及热电化学氧化技术领域,具体的,本发明涉及一种工频非对称正负电压的电源电路。
背景技术
热电化学氧化是近几年国内外发展较快的一种新的表面处理技术,它是在阳极氧化基础上发展起来的,又称为微等离子体氧化、等离子热电化学氧化、等离子体增强电化学表面陶瓷化等。热电化学氧化采用较高的工作电压,将电压的工作区域由普通的阳极氧化法的法拉第区域,引入到高压放电区域,利用弧光放电增强并激活,使阳极上发生的反应,在一定电流密度下,致使在工件表面出现电晕、辉光、微弧放电、甚至火花斑,在阀金属表面原位形成一层致密的陶瓷膜,进而达到工件表面改性强化。阀金属在金属-氧化物-电解液体系中具有电解阀门作用的金属,阀金属主要包括Al、T i、Mg、Zr、Nb、Ta六种金属及其合金。这种陶瓷膜与基体属冶金结合,结合强度好,硬度高,具有很好的耐磨、耐腐蚀、耐高压绝缘和抗高温冲击等特性,可以数倍乃至数十倍的提高工件的使用寿命。
热电化学氧化由于采用高压放电,工件表面发生剧烈的火花放电反应,火花放电太剧烈不易控制,热电化学氧化工艺过程对陶瓷膜的效果及致密性有重要的影响,此外,高压放电的能耗大,这也是制约热电化学氧化实际应用推广的一个重要的因素。现有的热电化学氧化的直流电源设备,能耗大,生产效率较低,并且影响陶瓷膜厚度及电泳封孔层的厚度。
有鉴于此,本发明提供一种工频非对称正负电压的电源电路,热电化学氧化的能耗低、生产效率高,且陶瓷膜厚度增加。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种工频非对称正负电压的电源电路,采用控制功率半导体的通断方式和时间,来控制工频非对称正负电压的波形,热电化学氧化的能耗低、生产效率高,且陶瓷膜厚度增加。
一种工频非对称正负电压的电源电路,包括回路a、回路b和回路c,回路a、回路b与回路c串联,回路a、回路b和回路c均包括一个开关S0、可控硅SCR1、可控硅SCR2、电镀槽E和电镀槽F,通过控制可控硅SCR1和可控硅SCR2的通断方式及时间,来控制工频非对称正负电压的波形,开关S0保持闭合,0-t1时间段内,可控硅SCR1和可控硅SCR2都断开,t1-t2时间段内,可控硅SCR1闭合、可控硅SCR2保持断开,t2-t3时间段内,可控硅SCR1和可控硅SCR2都断开,t3-t4时间段内,可控硅SCR1断开、可控硅SCR2,完成一个波形周期,依此循环。
在一些实施方式中,当电镀槽下方为正,上方为负时,输入电压为正半周时,由于可控硅SCR2上的电压始终处于反向,不可能导通,可控硅SCR2相当于断路(等效电路如图3所示)。
进一步的,在0-t1时间段内,可控硅SCR1处于截止状态,电流从电镀槽F的负端流向电镀槽E的正端,再流向电网,此时电镀槽F得到的是反向电压,电镀槽E得到的是正向电压。
进一步的,在t1时刻,控制电路向可控硅SCR1发出触发脉冲,使可控硅SCR1导通,此时电网电压全部由电镀槽F的负端流向电网,使电镀槽F得到最大的反向电压,电镀槽E没有电压,直到t2时刻,电网正半周结束。
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