[发明专利]高精度金属薄膜直流电导率测试方法

权利要求书

1.一种高精度金属薄膜直流电导率测试方法，包括：将金属膜基材料置于预先设定的测试环境中；沿所述金属膜基材料的厚度方向朝其表面的发射太赫兹波；根据金属膜基材料的类型和厚度，调节太赫兹波的参数；接收所述太赫兹波穿过金属膜基材料有膜区域和无膜区域后的首波参考和第一回波的信号；根据无膜区域的首波参考和第一回波的信号的傅里叶变换结果获得金属膜基材料的基板的精确复折射率；接收所述太赫兹波穿过所述金属膜基材料有膜区域的首波实验信号；根据所述首波参考信号和首波实验信号获得金属膜基材料的膜基和纯基板的实验透射系数比值；基于菲涅尔系数构造穿过测试环境的金属膜基材料有膜区域和无膜区域后的太赫兹波首波的理论光谱密度函数和误差函数；利用所述函数求得金属膜基材料的薄膜的电导率。

2.如权利要求1所述的金属膜基材料测试方法，其特征在于，所述测试环境的相对湿度小于等于1％。

3.如权利要求1所述的金属膜基材料测试方法，其特征在于，所述太赫兹信号E11的有效频率范围为大于等于0.2THz并且小于等于2.5THz，信噪比大于等于60dB。

4.如权利要求1所述的金属膜基材料测试方法，其特征在于，当所述金属膜基材料的薄膜由高电导率的金属材料制成时并且当其厚度为40-60nm时，所述光斑直径为6-8mm并且所述首波实验信号的信噪比为30-40dB；

当所述金属膜基材料的薄膜由中电导率的金属材料制成时并且当其厚度为40-60nm时，所述光斑直径为4-6mm并且所述首波实验信号的信噪比为30-40dB；当所述金属膜基材料的薄膜由低电导率的金属材料制成时并且当其厚度为100-150nm时，所述光斑直径为4-6mm并且所述首波实验信号的信噪比为30-40dB。