[发明专利]α-C位置修饰苄基取代的喹唑啉二酮类化合物及其制备方法和应用、HPPD除草剂有效

专利信息
申请号: 202110018717.9 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN113149913B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 杨光富;曲仁渝;南甲戌;王卓;曹俊巧;严耀超;王现全;陈恩昌;张天柱;杜晨 申请(专利权)人: 山东先达农化股份有限公司
主分类号: C07D239/96 分类号: C07D239/96;C07D403/06;A01N43/54;A01N43/56;A01P13/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 陈静;刘依云
地址: 256500 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 位置 修饰 苄基 取代 喹唑啉二 酮类 化合物 及其 制备 方法 应用 hppd 除草剂
【权利要求书】:

1.一种α-C位置修饰苄基取代的喹唑啉二酮类化合物或其农业化学上可接受的盐,该化合物具有式(I)所示的结构,

Q为式(Q1)或式(Q2)所示的基团:

所述式(I)所示的结构为以下化合物中的任意一种:

化合物1:化合物2:

化合物3:化合物4:

化合物5:化合物6:

化合物7:化合物8:

化合物9:化合物10:

化合物11:化合物12:

化合物13:化合物14:

化合物15:化合物16:

化合物17:化合物18:

化合物19:化合物20:

化合物21:化合物22:

化合物24:化合物26:

化合物28:化合物29:

化合物30:化合物35:

化合物36:化合物49:

化合物53:化合物56:

化合物61:化合物62:

化合物63:化合物64:

化合物65:化合物68:

化合物71:化合物72:

化合物73:化合物77:

化合物79:化合物82:

化合物89:化合物90:

化合物103:化合物104:

化合物107:化合物108:

化合物109:化合物110:

化合物111:化合物122:

化合物135:化合物152:

化合物153:化合物155:

化合物156:化合物177:

化合物178:化合物179:

化合物180:化合物181:

化合物182:化合物183:

化合物184:化合物185:

化合物186:化合物187:

化合物188:化合物189:

化合物220:化合物221:

化合物222:化合物223:

化合物224:化合物250:

化合物251:化合物252:

化合物253:化合物254:

2.一种制备权利要求1所述的化合物的方法,该方法包括:在重排反应条件下,将式(II)所示结构的化合物与催化剂在碱和溶剂存在下进行接触;

其中,在式(II)中,

W为式(W1)或式(W2)所示的基团,且式(W1)和式(W2)中的n、R11、R21和R22的定义与权利要求1中所述化合物对应;

m、R、R1、R2和R3的定义与权利要求1中所述化合物对应。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述接触的条件包括:反应温度为0-100℃;反应时间为0.5-24h。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述催化剂为丙酮氰醇。

5.根据权利要求2所述的方法,其中,所述溶剂选自二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、乙腈、甲苯、四氢呋喃和苯中的至少一种。

6.权利要求1所述的化合物或其农业化学上可接受的盐在抑制HPPD活性中作为除草剂的应用。

7.一种HPPD除草剂,其特征在于,该除草剂中含有0.1-99.99重量%的权利要求1所述的化合物或其农业化学上可接受的盐。

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