[发明专利]一种并行双M-Z光纤磁传感装置及其制作方法在审
申请号: | 202110017298.7 | 申请日: | 2021-01-07 |
公开(公告)号: | CN112666503A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 刘博;忻向军;赵立龙;毛雅亚;郑杰文;王瑞春;沈磊;任建新;吴泳锋;孙婷婷 | 申请(专利权)人: | 南京信息工程大学 |
主分类号: | G01R33/032 | 分类号: | G01R33/032 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210044 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 并行 光纤 传感 装置 及其 制作方法 | ||
本发明公开了一种并行双M‑Z光纤磁传感装置及其制作方法,包括将第一光纤耦合器一侧端口通过单模光纤与宽带光源连接,另一侧两端口通过单模光纤分别与M‑Z磁传感探头和参考M‑Z磁传感探头一端相连,第二光纤耦合器一侧端口通过单模光纤与光谱分析仪相接,另一侧两端口通过单模光纤分别与M‑Z磁传感探头和参考M‑Z磁传感探头另一端相连;M‑Z磁传感探头设有干涉结构的光纤,干涉结构的光纤外部套设有封闭的石英微管,石英微管内部和干涉结构光纤外部之间的封闭空间中填充有磁流体,在石英微管内形成一个M‑Z干涉仪。本发明向M‑Z光纤结构中注入磁流体以实现测量外界磁场的变化并利用并行双M‑Z干涉产生的游标效应,提升测量灵敏度和精准度;制作工艺简单易实现。
技术领域
本发明涉及光纤传感领域,尤其涉及一种并行双M-Z光纤磁传感装置及其制作方法。
背景技术
近年来,磁场检测在军事、航空航天、化学微检测、工业和电力传输等诸多领域应用愈加广泛。在电磁科学研究中,磁场测量可以作为检验电磁理论计算是否准确的有效手段,为许多难以计算的磁场环境提供测量数值;在电力工业,磁场测量可用于电力系统状态检测、电气设备内外磁场分布测量等;在电磁兼容领域研究中,磁场测量可用于检测电气、电子设备的对外电磁辐射与干扰,以及研究环境磁场对电子仪器运行的影响;在微波技术中,需要对微波发射与接收设备周围磁场进行测量。
磁流体作为一种新型功能介质,具有法拉第效应、磁致折变效应等多种独特磁光特性,因此,许多基于磁流体的光学器件被相继研发,如可调谐慢光器件、可调谐电容器、光开关等。同时,磁流体因液体流动性极易与光学光纤结合。随着传感技术的飞速发展,光纤传感器以其体积小、重量轻、灵敏度高、耐腐蚀、抗电磁干扰等优异的特性倍受青睐,可用于高温高压、强电磁场、强腐蚀等恶劣环境中的探测。在磁场探测方面,传统的磁场传感器具有体积大、结构复杂、动态范围小等缺点。在诸多光纤传感器中,光纤干涉传感器根据干涉原理可以分为Mach–Zehnder(M-Z)光纤传感器、Fabry-Perot(F-P)光纤传感器、Michelson光纤传感器、Sagnac光纤传感器等。M-Z光纤传感器具有结构简单紧凑、稳定性好和应用方便等诸多优点,因此M-Z光纤传感器被广泛研究,发展非常迅速,不同结构的M-Z光纤传感结构如光纤偏置、特殊结构光纤串接且在连接处烧制小球、光纤拉锥、光纤弯曲等。这些结构获得了较高的物理量测量灵敏度,但也存在一些问题,譬如,光纤中的微结构需用激光精密加工技术与化学腐蚀微处理技术,制备过程复杂;有些结构需要用到特种光纤,造价高等。
发明内容
发明目的:本发明目的是提供一种成本低廉、重复性好、轻便易携的并行双M-Z光纤磁传感装置及其制作方法,实现对磁场的高灵敏度测量。
技术方案:本发明提供一种并行双M-Z光纤磁传感装置,包括宽带光源、光纤耦合器、M-Z磁传感探头、参考M-Z磁传感探头和光谱分析仪;第一光纤耦合器一侧端口通过单模光纤与宽带光源连接,第一光纤耦合器另一侧两端口通过单模光纤分别与M-Z磁传感探头和参考M-Z磁传感探头一端相连,第二光纤耦合器一侧端口通过单模光纤与光谱分析仪相接,第二光纤耦合器另一侧两端口通过单模光纤分别与M-Z磁传感探头和参考M-Z磁传感探头另一端相连;M-Z磁传感探头设有干涉结构的光纤,干涉结构的光纤外部套设有封闭的石英微管,石英微管内部和干涉结构光纤外部之间的封闭空间中填充有磁流体,在石英微管内形成一个M-Z干涉仪。
进一步地,M-Z磁传感探头采用偏置M-Z干涉结构,偏置M-Z干涉结构内设有偏置结构的单模光纤,偏置结构两边的单模光纤中心对齐。
进一步地,M-Z磁传感探头采用拉锥M-Z干涉结构,拉锥M-Z干涉结构内设有拉锥结构的单模光纤。
进一步地,M-Z磁传感探头采用双球M-Z干涉结构,双球M-Z干涉结构内设有光子晶体光纤,光子晶体光纤的两端分别与单模光纤端面的光纤泡熔接。
进一步地,M-Z磁传感探头和参考M-Z磁传感探头长度为1至1.5cm。
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