[发明专利]一种AlON粉体的制备方法在审
| 申请号: | 202110014916.2 | 申请日: | 2021-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN114716250A | 公开(公告)日: | 2022-07-08 |
| 发明(设计)人: | 周有福;杨健;许文涛;凌军荣;洪茂椿 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所;闽都创新实验室 |
| 主分类号: | C04B35/581 | 分类号: | C04B35/581;C04B35/626 |
| 代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞;吕少楠 |
| 地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 alon 制备 方法 | ||
本发明公开了一种AlON粉体的制备方法,属于陶瓷粉体制备领域。该制备方法以尿素、糖类化合物、铝盐为原料,通过水热法合成具有包覆结构的复合前驱体物质,再结合碳热还原氮化法合成纯相的AlON粉体。所述制备方法合成的具有包覆结构的复合前驱体物质,提高了原料物质的直接接触面积和混合均匀度,缩短了碳热反应中原料的扩散路径,有效抑制碳热还原反应中中间产物的局部烧结和汇聚长大,其合成粉体颗粒尺寸在1μm左右,所述方法可在约1700℃合成纯相AlON粉体,显著的降低了其粉体的合成温度。
技术领域
本发明涉及一种AlON粉体的制备方法,属于陶瓷粉体制备领域。
背景技术
立方尖晶石结构的AlON陶瓷具有优异的光学和机械性能,是一种理想的结构-功能一体化多晶陶瓷材料,可以作为用于透明装甲、中红外窗口、整流罩等领域的候选材料。高光学质量AlON透明陶瓷材料的制备取决于其粉体的合成工艺,纯度高、粒径小、分散性好、烧结活性高的粉体是优化AlON陶瓷烧结工艺的先决条件。
AlON粉体的合成方法有很多,目前研究最多的是固相反应法(Al2O3+AlN)和氧化铝的氮化还原法(Al2O3+C/Al),其中碳热还原氮化法因原料易得、成本低廉、工艺简单等因素成为合成高纯AlON粉体最为实用的一种方法。对于固相反应法,如刘学建等(刘学建、李会利、黄政仁、王士维、江东亮,高温固相反应工艺制备AlON粉体[J].无机材料学报,2009,24(06):1159-1162)以Al2O3和AlN为原料,在1950℃煅烧4h时,合成单相的AlON粉体。对于碳热还原氮化法,中国专利CN103242043B公开了氧氮化铝粉体的合成方法,以Al2O3和碳粉为原料,采用球磨方式混料,流动氮气经过加湿装置后连续充入石墨气氛炉中,石墨炉以10℃/min升温至1850℃保温2h合成氮氧化铝粉体。中国专利文献CN107867863.A公开了一种氮氧化铝陶瓷粉体及其制备方法,以有机醇铝和糖类化合物为原料,采用溶胶-凝胶法制备氮氧化铝先驱体,该氮氧化铝先驱体在加热过程中生成γ-Al2O3和炭黑,所得的AlON陶瓷先驱体进行分段热处理,获得氮氧化铝陶瓷粉体。中国专利CN102838355B公开了一种批量制备AlON透明陶瓷粉体的方法,以纳米氧化铝和活性炭为原料,可在1750℃制备AlON粉体,但合成的AlON粉体需要在空气中600-640℃煅烧2-6h除碳。对于氧化铝的直接氮化法,中国专利文献CN 104446496A公开了一种AlON粉体的制备方法及由其制备的透明陶瓷,其以铝粉和氧化铝粉为原料,采用直接氮化法合成纯相AlON粉体,其合成条件为在1750℃保温3h。周纪承等(周纪承、廖志君、齐建起、庞微、程子萌、伍登学、卢铁城,反应烧结法合成AlON粉体的研究[J].稀有金属材料与工程,2007(S1):72-75)采用微米级Al粉和纳米级Al2O3粉为原料,在1800℃煅烧3h的条件下,直接氮化合成纯相的AlON粉体。
上述固相反应法和氧化铝的直接氮化法制备的AlON粉体,其粉体的合成温度一般都高达1750-1850℃,高的合成温度增加了材料的制备成本,粉体的颗粒粒径也会长大至几微米至几十微米,严重降低了粉体的烧结活性;常规的碳热还原氮化法合成的AlON粉体需要在空气中进行除碳处理,增加了合成工序,同时易存在残留炭,影响陶瓷光学性能;由于原料粉体中氧化铝含量较多,即使采用高能湿球磨的混料方式,也很难使氧化铝颗粒被有效分隔开,这也就容易导致原料中易烧结的氧化铝颗粒在高温合成AlON粉体时,优先汇聚长大并且发生局部烧结。
发明内容
本发明提供一种AlON粉体的制备方法,包括以下步骤:尿素、糖类化合物、铝盐和溶剂经水热反应,制备得到复合前驱体,所述复合前驱体具有碳包覆结构;将所述复合前驱体置于惰性氛围中煅烧,得到所述AlON粉体。
根据本发明的实施方案,所述AlON粉体的制备方法包括以下步骤:
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