[发明专利]抛光组合物

权利要求书

1.一种对衬底进行抛光的方法，包括以下步骤：

(a)提供具有至少一个金属层的衬底；

(b)使所述衬底接触组合物，以及

(c)用所述组合物对所述衬底进行化学机械抛光，

其中所述组合物包含：

i)0.01重量％至10重量％的磨料；

ii)0.001重量％至0.1重量％的包含磷酸酯/盐的第一表面活性剂；

iii)0.001重量％至0.05重量％的包含炔属化合物的第二表面活性剂；

iv)0.1重量％至20重量％的配位剂；

v)0.001重量％至5重量％的至少一种唑；和

vi)水，

其中所述组合物不含聚(乙烯基吡咯烷酮)，

其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯烷基醚磷酸酯/盐、聚氧乙烯芳基烷基醚磷酸酯/盐、聚氧乙烯壬基芳基醚磷酸酯/盐，及其任意的组合，

其中所述炔属化合物为炔二醇或其乙氧基化加合物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述磨料选自氧化铝、热解法二氧化硅、胶体二氧化硅、经涂覆的颗粒、氧化钛、氧化铈、氧化锆及其任意的组合。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯烷基醚磷酸酯/盐。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯芳基烷基醚磷酸酯/盐。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯壬基芳基醚磷酸酯/盐。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯壬基苯基醚磷酸酯/盐。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述炔属化合物为2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇的乙氧基化加合物。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述配位剂选自有机酸及其盐；基于氨的化合物；无机酸；及其任意的混合物。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述配位剂选自氨基酸。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述配位剂为甘氨酸。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述组合物还包含氧化剂。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述配位剂选自具有羧基和氨基二者官能的化合物。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述配位剂选自乙二胺四乙酸，二亚乙基三胺五乙酸，及其任意的混合物。

14.一种从衬底上去除铜层的方法，包括

使所述铜层接触组合物，

其中所述组合物以所述组合物的峰值去除速率的至少75％的速率去除所述铜层，以及

其中所述组合物包含：

0.01重量％至1.0重量％的磨料；

0.001重量％至0.01重量％的包含磷酸酯/盐的第一表面活性剂；

0.001重量％至0.01重量％的包含炔属化合物的第二表面活性剂；

0.1重量％至2.0重量％的配位剂；

0.001重量％至0.5重量％的至少一种唑；

0.1重量％至5重量％的氧化剂，和

水，

其中所述组合物不含聚(乙烯基吡咯烷酮)，

其中所述磷酸酯/盐选自聚氧乙烯烷基醚磷酸酯/盐、聚氧乙烯芳基烷基醚磷酸酯/盐、聚氧乙烯壬基芳基醚磷酸酯/盐，及其任意的组合，

其中所述炔属化合物为炔二醇或其乙氧基化加合物。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述磨料选自氧化铝、热解法二氧化硅、胶体二氧化硅、经涂覆的颗粒、氧化钛、氧化铈、氧化锆及其任意的组合。