[发明专利]用于离心电镀机电镀缸的排水组件

说明书

本发明公开了一种用于离心电镀机电镀缸的排水组件，包括电镀缸缸体底部的排水孔，还包括竖直布置的吸杆，吸杆的底端设有吸头，吸头上设有可过滤电镀产品的过滤网，吸杆的另一端与吸泵连接，吸杆由一驱动气缸驱动升降，吸杆可下降到所述电镀缸的缸体内。本发明具有排水速度快且排水无残留等优点。

技术领域

本发明主要涉及离心电镀机领域，特指一种用于离心电镀机电镀缸的排水组件。

背景技术

在微型电子元器件的电镀设备领域，离心电镀机主要包括阳极装置和电镀缸，电镀缸主要包括由电机驱动旋转的缸体，阳极装置接电流阳极，缸体的阴极环接电流阴极。工作时，往缸体内加入带镀层金属离子的电镀药水，阳极装置插入电镀药水中不断向电镀药水补充镀层金属离子，利用缸体旋转产生的离心力，将缸体内的微型电子元器件甩向阴极环内壁并与阴极环内壁碰撞后不断翻滚，使微型电子元器件高效而均匀上镀。

电镀缸的缸体主要由阴极环、底板和上盖组成，底板上设有排水孔，排水孔用来排出缸体内的电镀药水。排水孔设有过滤网，过滤网的网孔孔径小于电镀产品的尺寸，以避免电镀产品掉入排水孔。对于微型电子元器件这种尺寸很小的电镀产品，过滤网的网孔就要设置得非常小，但是过小的网孔又会导致排水困难，排水慢，而且无法彻底排尽。在电镀完之后需要排空药水时，由于药水无法排尽，后续清洗缸体的时候就只能用大量的水来稀释残留的药水，导致清洗时间长，而且也无法完全清洗干净，很容易在下一电镀工序造成药水交叉感染。再者，未排尽的药水由于无法排回到药水循环系统，也造成了一定程度的药水浪费。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于：针对现有技术存在的缺陷，提供一种排水速度快且排水无残留的用于离心电镀机电镀缸的排水组件。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种用于离心电镀机电镀缸的排水组件，包括电镀缸缸体底部的排水孔，还包括吸杆，吸杆为一竖直布置的管道，吸杆的底端设有吸头，吸头上设有可过滤电镀产品的过滤网，吸杆的另一端与吸泵连接，吸杆由一驱动气缸驱动升降，吸杆可下降到所述电镀缸的缸体内。

进一步，所述吸杆可下降到使吸头贴近电镀缸的缸体底部。

进一步，所述吸头的底部设有过滤网，或者，所述吸头的底部和侧面均设有过滤网。

进一步，所述吸杆上设有一用来对吸杆外壁进行清洗的清洗装置，所述清洗装置包括套在吸杆上的清洗环，清洗环的高度位置固定不动，所述吸杆升降时相对清洗环上下移动，清洗环上设有进水口和喷水孔，所述进水口外接供水管，所述喷水孔朝向吸杆的外壁。

进一步，所述进水口设于清洗环的上端面或外侧面，所述喷水孔设于清洗环的内侧面。

进一步，所述喷水孔为多个，多个喷水孔沿圆周方向均匀分布在清洗环的内侧面上。

进一步，所述清洗环的底部连接有导套，用来对吸杆的升降运动进行导向。

进一步，所述清洗环固定于离心电镀机的顶部支架上。

与现有技术相比，本发明的优点在于：1、本发明通过增设一吸杆，吸杆可伸入电镀缸的缸体内，通过吸泵的作用将电镀缸缸体内的水吸出，相比底板排水孔自然排水，吸杆通过强大的吸力将水吸出，排水更快更彻底，排水无残留；2、吸杆上设有用来对吸杆外壁进行清洗的清洗装置，可将吸杆外壁沾有的电镀药水等冲洗掉，保持吸杆干净，避免吸杆造成污染。

附图说明

图1为本发明在具体应用中的结构示意图。

图2为本发明中的清洗装置的放大结构示意图(立体图)。

图3为本发明中的清洗装置的放大结构示意图(剖视图)。

图4为本发明中的吸头的放大结构示意图(立体图)。