[发明专利]微透镜阵列及其制作方法、匀光元件和成像模组

权利要求书

1.一种微透镜阵列的制作方法，其特征在于，包括：

将阵列平面上的每个初始控制点分别沿所述阵列平面的第一方向和第二方向随机偏移以得到多个目标控制点，其中，所述阵列平面上具有多个所述初始控制点，相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔相同，在所述第二方向上的间隔也相同，所述第一方向垂直于所述第二方向；

根据多个所述目标控制点计算出多个泰森多边形边界，其中，每个所述目标控制点对应一个泰森多边形边界，相邻两个所述泰森多边形边界至少共用一个边；

将所述目标控制点作为微透镜的中心投影，将所述泰森多边形边界作为微透镜的边界投影以生成多个微透镜，从而得到所述微透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，在所述将阵列平面上的每个初始控制点分别沿第一方向和第二方向随机偏以得到多个目标控制点之前，所述微透镜阵列的制作方法还包括：

在所述阵列平面上基于标准阵列间隔生成多个所述初始控制点，其中，所述标准阵列包括矩形阵列。

3.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，多个所述微透镜的曲率半径R满足以下关系式：

5*max(dx，dy)R3*max(dx，dy)；

其中，dx为相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔距离，dy为相邻两个所述初始控制点在所述第二方向上的间隔距离。

4.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔距离dx为5um-100um，相邻两个所述初始控制点在所述第二方向上的间隔距离dy为5um-100um。

5.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔距离dx和相邻两个所述初始控制点在所述第二方向上的间隔距离dy满足以下关系式：

9/16≤dx/dy≤16/9。

6.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，所述目标控制点与所述初始控制点之间的最大偏移距离dl满足以下关系式中的至少一个：

dx/6dldx/1.5；

dy/6dldy/2；

其中，dx为相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔距离，dy为相邻两个所述初始控制点在所述第二方向上的间隔距离。

7.根据权利要求6所述的微透镜阵列的制作方法，其特征在于，所述目标控制点与所述初始控制点之间的最大偏移距离dl满足以下关系式中的至少一个：

dx/6dldx/3；

dy/6dldy/3。

8.一种微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列采用权利要求1-7任一项所述的微透镜阵列的制作方法制成。

9.一种匀光元件，其特征在于，所述匀光元件包括微透镜阵列，所述微透镜阵列具有多个位于阵列平面上的微透镜，所述微透镜的中心在所述阵列平面上的投影对应所述微透镜的目标控制点，相邻的所述微透镜的交界线在所述阵列平面上的投影为泰森多边形，所述泰森多边形由所述目标控制点计算得出；

其中，所述目标控制点由所述阵列平面上的初始控制点沿阵列平面的第一方向和第二方向随机偏移得到，相邻两个所述初始控制点在所述第一方向上的间隔相同，在所述第二方向上的间隔也相同，所述第一方向垂直于所述第二方向。

10.一种成像模组，其特征在于，包括权利要求9所述的匀光元件。