[发明专利]一种钙钛矿忆阻器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110005175.1 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN112820824A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 廖广兰;叶海波;刘智勇;刘星月;张许宁;史铁林;汤自荣 申请(专利权)人: 华中科技大学;深圳华中科技大学研究院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 许恒恒;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 钙钛矿忆阻器 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了提供了一种钙钛矿忆阻器及其制备方法,包括自下而上排列的底电极、无铅钙钛矿层、聚合物保护层和顶电极层;其中,所述无铅钙钛矿层为无铅金属卤化物钙钛矿,所述无铅金属卤化物钙钛矿为致密的多边形纳米颗粒结构。所述方法包括:在底电极上采用热动态旋涂法旋涂无铅金属卤化物钙钛矿前驱体溶液,退火处理在底电极上形成无铅钙钛矿层;在无铅钙钛矿层上旋涂聚合物溶液,退火,在无铅钙钛矿层上形成聚合物保护层;在聚合物保护层上通过热蒸发制备顶电极,在聚合物保护层上形成顶电极层,得到钙钛矿忆阻器。本发明避免了毒性铅的使用,并且无铅钙钛矿为致密的多边形纳米颗粒,覆盖率高,防止短路。

技术领域

本发明属于存储器技术领域,更具体地,涉及一种钙钛矿忆阻器及其制备方法。

背景技术

阻变式随机存储器因为转变速度快、继承密度高和功率消耗低的优点,在存储器件和人工突触等领域收到越来越多的关注。此外,由于ReRAM简单的金属-绝缘体-金属结构具有实现高集成密度的潜力,甚至克服了当前基于硅的闪存技术的扩展限制。柔性电子因其可弯曲,可折叠,可拉伸或可穿戴等特点而备受瞩目,在这些应用中,柔性存储设备是迫切需要的。到目前为止,尽管许多具有电阻开关特性的材料已经广泛研究,但是关于柔性忆阻器的报道仍然很少。在那些应用于ReRAM的材料中,无机氧化物材料在过去几年中备受关注,特别是无机钙钛矿材料,例如PrxCa1–xMnO3(PCMO),SrTiO3(STO),和BaTiO3。然而,钙钛矿氧化物薄膜仍需高温处理过程,这限制了它们在柔性电子中的应用。

溶液法制备的有机无机铅卤素钙钛矿在各种应用(例如太阳能电池、发光二极管、薄膜晶体管和忆阻器)中展现出无与伦比的性能。钙钛矿杰出的性能归因于出色的材料特性(光吸收强、带隙可调、双极性电荷传输和载流子扩散距离长)。不幸的是,铅的毒性阻碍了进一步的大规模商业化应用。将钙钛矿中的铅元素替代为无毒元素迫在眉睫。用IVA族元素锡(Sn)或锗(Ge)代替有毒的铅是一种有效的办法。然而基于锡或锗的钙钛矿稳定性较差,因为其暴露于空气中时,Sn2+容易氧化为Sn4+,Ge2+容易氧化为Ge4+。然而,Sn2+固有的不稳定性不能完全解决。

发明内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供了一种钙钛矿忆阻器及其制备方法,其目的在于采用无铅钙钛矿,避免了毒性铅的使用,并且该无铅钙钛矿为致密的多边形纳米颗粒,使得无铅钙钛矿层的覆盖率高,防止短路。

为实现上述目的,按照本发明的一个方面,提供了一种钙钛矿忆阻器,包括自下而上排列的底电极、无铅钙钛矿层、聚合物保护层和顶电极层;

其中,所述无铅钙钛矿层为无铅金属卤化物钙钛矿,所述无铅金属卤化物钙钛矿为致密的多边形纳米颗粒结构。

优选地,所述为AgBiI4钙钛矿、AgBiCl4钙钛矿、AgBiBr4钙钛矿中的一种。

优选地,所述无铅钙钛矿层通过热动态旋涂法涂覆于所述底电极上得到。

优选地,所述无铅钙钛矿层的厚度为400-500nm。

优选地,所述聚合物保护层为PMMA、PET、PC中的一种,所述聚合物保护层的厚度为20-30nm。

优选地,所述底电极为镀有氧化铟锡的玻璃;所述顶电极层为银电极层或铜电极层,所述顶电极层的厚度为40-60nm。

按照本发明的另一方面,提供了一种上文所述的钙钛矿忆阻器的制备方法,包括下列步骤:

(1)在底电极上采用热动态旋涂法旋涂无铅金属卤化物钙钛矿前驱体溶液,然后在100-200℃退火处理,在底电极上形成无铅钙钛矿层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学;深圳华中科技大学研究院,未经华中科技大学;深圳华中科技大学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110005175.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top