[发明专利]液位控制系统和方法及玻璃窑炉在审
申请号: | 202110004012.1 | 申请日: | 2021-01-04 |
公开(公告)号: | CN112835387A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 李青;李赫然;左志民;严永海;胡恒广 | 申请(专利权)人: | 河北光兴半导体技术有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭科技集团有限公司 |
主分类号: | G05D9/12 | 分类号: | G05D9/12 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 肖冰滨;王晓晓 |
地址: | 050035 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制系统 方法 玻璃 | ||
本发明实施例提供一种液位控制系统和方法及玻璃窑炉,属于自动控制技术领域。所述系统包括控制器和驱动模块,所述控制器,包括:多段补偿模块和比较模块,所述多段补偿模块,用于:a.计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;b.基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;所述比较模块,用于:c.在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;所述驱动模块,用于根据所述输出频率F进行加料。该系统通过多段速液位控制,使窖炉液位控制更为稳定。
技术领域
本发明涉及自动控制技术领域,具体地涉及一种液位控制系统和方法及玻璃窑炉。
背景技术
在药用玻璃的生产过程中,窑炉液位的稳定性对玻璃品质有至关重要的作用,于是要求窑炉液位保持稳定,加料速度也保持稳定。
现有技术调节窖炉液位大多采用PID(Proportional Integral Derivative,比例积分微分)算法,然而使用PID算法存在下述缺陷:一方面PID参数很难设定,另一方面使用PID控制易造成液位波动甚至突变。
针对上述问题,亟需一种液位控制方法使窖炉液位控制更稳定。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种液位控制系统,该系统通过多段速液位控制,使窖炉液位控制更为稳定,没有其他的扰动干扰和突变。
为了实现上述目的,本发明实施例提供一种液位控制系统,包括控制器和驱动模块,所述控制器,包括:多段补偿模块和比较模块,所述多段补偿模块用于:a.计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;b.基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;所述比较模块,用于:c.在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;所述驱动模块,用于根据所述输出频率F进行加料。
可选的,所述控制器还包括频率限制模块,用于:将所述运行频率Fx进行上下限限制,获得输出频率F。
可选的,在每一区间段内,所述ΔFn与所述ΔLn为线性关系。
可选的,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系的区间段数为6-10段。
可选的,所述驱动模块,包括变频器和加料机,所述变频器用于根据所述输出频率F驱动所述加料机。
可选的,还包括:液位计,用于获取所述实际液位Lx。
可选的,所述控制器为PLC控制器。
另一方面,本发明提供一种玻璃窑炉,包括上述任一项所述液位控制系统。
另一方面,本发明提供一种液位控制方法,包括:获取实际液位Lx;计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;根据所述输出频率F进行加料。
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