[发明专利]液位控制系统和方法及玻璃窑炉在审

专利信息
申请号: 202110004012.1 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN112835387A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 李青;李赫然;左志民;严永海;胡恒广 申请(专利权)人: 河北光兴半导体技术有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭科技集团有限公司
主分类号: G05D9/12 分类号: G05D9/12
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;王晓晓
地址: 050035 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 控制系统 方法 玻璃
【说明书】:

发明实施例提供一种液位控制系统和方法及玻璃窑炉,属于自动控制技术领域。所述系统包括控制器和驱动模块,所述控制器,包括:多段补偿模块和比较模块,所述多段补偿模块,用于:a.计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;b.基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;所述比较模块,用于:c.在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;所述驱动模块,用于根据所述输出频率F进行加料。该系统通过多段速液位控制,使窖炉液位控制更为稳定。

技术领域

本发明涉及自动控制技术领域,具体地涉及一种液位控制系统和方法及玻璃窑炉。

背景技术

在药用玻璃的生产过程中,窑炉液位的稳定性对玻璃品质有至关重要的作用,于是要求窑炉液位保持稳定,加料速度也保持稳定。

现有技术调节窖炉液位大多采用PID(Proportional Integral Derivative,比例积分微分)算法,然而使用PID算法存在下述缺陷:一方面PID参数很难设定,另一方面使用PID控制易造成液位波动甚至突变。

针对上述问题,亟需一种液位控制方法使窖炉液位控制更稳定。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种液位控制系统,该系统通过多段速液位控制,使窖炉液位控制更为稳定,没有其他的扰动干扰和突变。

为了实现上述目的,本发明实施例提供一种液位控制系统,包括控制器和驱动模块,所述控制器,包括:多段补偿模块和比较模块,所述多段补偿模块用于:a.计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;b.基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;所述比较模块,用于:c.在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;所述驱动模块,用于根据所述输出频率F进行加料。

可选的,所述控制器还包括频率限制模块,用于:将所述运行频率Fx进行上下限限制,获得输出频率F。

可选的,在每一区间段内,所述ΔFn与所述ΔLn为线性关系。

可选的,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系的区间段数为6-10段。

可选的,所述驱动模块,包括变频器和加料机,所述变频器用于根据所述输出频率F驱动所述加料机。

可选的,还包括:液位计,用于获取所述实际液位Lx

可选的,所述控制器为PLC控制器。

另一方面,本发明提供一种玻璃窑炉,包括上述任一项所述液位控制系统。

另一方面,本发明提供一种液位控制方法,包括:获取实际液位Lx;计算实际液位Lx与设定液位L0的液位偏差ΔLn;基于所述液位偏差ΔLn,根据液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系,确定频率偏差ΔFn,其中,所述液位偏差ΔLn与频率偏差ΔFn的对应关系根据所述ΔLn分为多段区间,在每一区间段上,所述ΔFn与所述ΔLn同正负;在基础频率F0的基础上减去所述频率偏差ΔFn,获得运行频率Fx作为输出频率F;根据所述输出频率F进行加料。

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