[发明专利]光源装置在审
| 申请号: | 202080099566.8 | 申请日: | 2020-04-09 | 
| 公开(公告)号: | CN115380188A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 | 
| 发明(设计)人: | 萩原守 | 申请(专利权)人: | 株式会社USK技术 | 
| 主分类号: | F21V33/00 | 分类号: | F21V33/00;B29C35/08;B41F23/04 | 
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王玮 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光源 装置 | ||
本发明涉及一种光源装置。是一种在平面上排列有多个发光二极管(2)的光源装置(1),各发光二极管(2)的光分布角小于50°或者大于80°。
技术领域
本发明涉及光源装置。
背景技术
以往,公知有在平面上排列有多个发光二极管的光源装置(例如,参照专利文献1)。例如,使用发出紫外线的发光二极管的光源装置用于对水等流体进行杀菌(将细菌灭活)的流体杀菌装置、使紫外线固化树脂固化的树脂固化装置。
专利文献1:日本专利第5732157号公报
在用于上述杀菌装置、树脂固化装置等的光源装置中,例如为了无遗漏地进行杀菌或者使树脂均匀地固化这样的目的,往往希望在照射来自发光二极管的光的照射面上,照射均匀的光。
发明内容
因此,本发明目的是提供一种能够提高照射面上的光量的均匀性的光源装置。
本发明以解决上述课题为目的,提供一种光源装置,其是在平面上排列有多个发光二极管的光源装置,上述各发光二极管的光分布角小于50°或者大于80°。
根据本发明,能够提高照射面上的光量的均匀性。
附图说明
图1是本发明的一实施方式的光源装置的结构简图。
图2A是表示光分布角20°的发光二极管的相对光度与角度的关系的曲线图。
图2B是表示光分布角20°的发光二极管的相对光度与角度的关系的曲线图。
图2C是表示光分布角140°的发光二极管的相对光度与角度的关系的曲线图。
图2D是表示光分布角140°的发光二极管的相对光度与角度的关系的曲线图。
图3A是表示发光二极管的配置的图。
图3B是表示在图3A中将光分布角设为20°时的光量分布的模拟结果的图。
图3C是表示在图3A中将光分布角设为50°时的光量分布的模拟结果的图。
图3D是表示在图3A中将光分布角设为140°时的光量分布的模拟结果的图。
图4是表示距光量成为峰值的60%或者80%的中心的距离与光分布角的关系的曲线图。
图5A是表示在将光分布角设为20°的情况下,将从发光二极管到照射面的光学距离设为50mm时的光量分布的模拟结果的图。
图5B是表示在将光分布角设为20°的情况下,将从发光二极管到照射面的光学距离设为80mm时的光量分布的模拟结果的图。
图5C是表示在将光分布角设为20°的情况下,将从发光二极管到照射面的光学距离设为100mm时的光量分布的模拟结果的图。
图5D是表示在将光分布角设为20°的情况下,将从发光二极管到照射面的光学距离设为150mm时的光量分布的模拟结果的图。
图5E是表示在将光分布角设为20°的情况下,将从发光二极管到照射面的光学距离设为200mm时的光量分布的模拟结果的图。
图6A是表示在图5A中,通过中心轴的剖面的光量分布的曲线图。
图6B是表示在图5B中,通过中心轴的剖面的光量分布的曲线图。
图6C是表示在图5C中,通过中心轴的剖面的光量分布的曲线图。
图6D是表示在图5D中,通过中心轴的剖面的光量分布的曲线图。
图6E是表示在图5E中,通过中心轴的剖面的光量分布的曲线图。
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