[发明专利]黑色遮光部件在审
申请号: | 202080089852.6 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN114846365A | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 坂村桧;坂爪直树 | 申请(专利权)人: | 索马龙株式会社 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B7/02;G03B9/00 |
代理公司: | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人: | 潘卫锋 |
地址: | 日本国东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 黑色 遮光 部件 | ||
本发明提供一种具有优异的基于低光泽性的防反射效果和高黑色性的黑色遮光部件。制造一种黑色遮光部件,其具备基材膜、在基材膜的至少一个面上形成的具有凹凸形状的树脂制遮光层、以及在树脂制遮光层上形成的黑化层。通过调整使得形成了遮光层和黑化层的面的表面算术平均粗糙度Ra为0.25μm以上,且黑化层的最大厚度小于上述Ra,从而实现了L值为12以下的黑度。
技术领域
本发明涉及一种黑色遮光部件,更具体地,涉及能够适用于包括智能手机在内的移动电话等的照相机单元等光学设备上的黑色遮光部件。
背景技术
通常,遮光部件用于照相机的透镜光圈、快门以及透镜垫片。
作为这样的遮光部件,已知在具有炭黑之类的黑色聚酯基材等的表面上形成有规定的凹凸形状的黑色膜。作为形成上述凹凸的方法,可举出通过在基材表面上覆盖含有消光剂的遮光层的方法、通过喷砂等方法对基材表面进行粗糙化处理的方法。
专利文献1中记载了:使用上述方法等,能够制造一种基于JIS B0601:2001测出的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp-Rv)小于3的遮光部件。专利文献1的遮光部件即使是很薄,也能发挥优异的防止反射性能,由于具有优异的硬度以及遮光层与膜基材之间的紧贴性,所以也能够长期维持优异的防止反射性能。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第WO2018/052044号公报
发明内容
发明要解决的课题
近年来,以提高设计感为目的,寻求使用于光学设备的遮光部件的黑色变得明显的部件。然而,至今尚未获得任何令人满意的结果。
本发明是鉴于上述情况而完成的,目的在于提供一种具有优异的基于低光泽性的防反射效果和较高的黑色性的遮光部件。
用于解决课题的手段
本发明人等鉴于上述课题而进行了深入研究,结果发现,通过在具有基材膜、以及在基材膜的至少一个面上形成的具有凹凸形状的树脂制遮光层的黑色遮光部件中,在上述凹凸形状的基础上形成黑化层,并进一步控制遮光部件表面的凹凸形状,能够解决上述课题,由此想到了本发明。即,本发明的黑色遮光部件具备基材膜、在上述基材膜的至少一个面上形成的具有凹凸形状的树脂制遮光层、以及在上述树脂制遮光层上形成的黑化层,其特征在于,在所述黑色遮光部件中,形成上述遮光层和黑化层的面的表面算术平均粗糙度Ra为0.25μm以上,且L值为12以下,上述黑化层的最大厚度小于上述Ra。
这里,树脂制遮光层是指至少形成黑化层的表面的凹凸部为树脂制。例如,如后述那样,在形成有凹凸形状的金属制基材膜表面上形成了含有消光剂的遮光层和/或不含有消光剂的遮光层的结构也包含于本发明的树脂制遮光层。
另外,本发明中记载的算术平均粗糙度Ra是基于JIS B0601:2001计算的,L值为基于JIS Z8781-4计算的表示L*a*b*色空间中的明度的L*值。
优选的是,上述树脂制遮光层具有含有消光剂和树脂组分的树脂层。
此外,上述树脂制遮光层也可以包含形成于基材膜表面的粗糙化部。
另一方面,优选的是,上述黑化层含有无机类材料。
优选的是,上述黑化层包括选自氟化镁、氟化钙、氟化锂、氧化铝、氧化镓、氧化硅中的至少一种。
此外,优选的是,上述黑化层通过选自溅射法、蒸镀法、离子镀法、化学蒸镀(CVD)法中的任一方法形成。
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