[发明专利]激光放电腔内金属氟化物粉尘捕集用填充床过滤器

权利要求书

1.一种光源装置，包括：

气体放电级，包括：

光学放大器，包括被配置为保持气体放电介质的腔室，所述气体放电介质输出光束；以及

成组光学元件，所述成组光学元件被配置为围绕所述光学放大器形成光谐振器；以及

金属氟化物阱，所述金属氟化物阱被配置为捕集从所述气体放电级生成的金属氟化物粉尘，所述金属氟化物阱包括：

静电除尘器；以及

填充床过滤器，被设置为围绕所述静电除尘器，

其中，所述填充床过滤器包括被配置为吸收金属氟化物粉尘的多个珠粒。

2.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述填充床过滤器包括被配置为控制所述气体放电介质的通过所述金属氟化物阱的流量的总表面积。

3.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述填充床过滤器包括由挡板隔开的多个填充床过滤器。

4.根据权利要求3所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器各不相同。

5.根据权利要求4所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器的表面积各不相同。

6.根据权利要求4所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器的填充密度各不相同。

7.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒均为球形，并且包括光滑的抛光外表面。

8.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒包括耐氟化物腐蚀材料。

9.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒包括多个第一珠粒，以及不同于所述多个第一珠粒的多个第二珠粒。

10.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述气体放电介质包括准分子介质。

11.根据权利要求10所述的光源装置，其中，所述气体放电介质包括F₂、ArF、KrF和/或XeF。

12.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述成组光学元件包括：

光耦合器(OC)，与所述腔室的第一光端口光学连通；以及

线宽收窄模块(LNM)，与所述腔室的第二光端口光学连通。

13.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：

压力控制系统，所述压力控制系统被耦合至所述气体放电级，并且被配置为引导所述气体放电介质的一部分流过所述金属氟化物阱的输入端口，流过所述填充床过滤器，并且流过所述金属氟化物阱的一个或多个输出端口。

14.一种金属氟化物阱，所述金属氟化物阱被配置为捕集气体放电级的气体放电介质中生成的金属氟化物粉尘，所述金属氟化物阱包括：

静电除尘器；以及

填充床过滤器，被设置为围绕所述静电除尘器，

其中，所述填充床过滤器包括被配置为吸收所述气体放电介质中的金属氟化物粉尘的多个珠粒。

15.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述填充床过滤器包括被配置为控制所述气体放电介质的通过所述金属氟化物阱的流量的总表面积。

16.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述多个珠粒均为球形。

17.根据权利要求16所述的金属氟化物阱，其中，每个珠粒的直径为约1mm至约10mm。

18.根据权利要求16所述的金属氟化物阱，其中，每个珠粒包括光滑的抛光外表面。