[发明专利]对带电粒子束进行轮廓分析的系统和方法

权利要求书

1.一种对带电粒子束进行轮廓分析的方法，所述方法包括：

激活带电粒子源以沿着主光轴生成所述带电粒子束；

通过调节所述带电粒子束与驻光波之间的相互作用来修改所述带电粒子束；

在与所述驻光波的所述相互作用之后，使用带电粒子检测器从修改后的所述带电粒子束中检测带电粒子；以及

基于检测到的所述带电粒子确定所述带电粒子束的特性。

2.一种带电粒子束系统，包括：

带电粒子源，用于沿着主光轴生成带电粒子束；

光源，被配置为沿着次光轴生成驻光波；以及

控制器，具有电路装置并且被配置为：

激活所述光源以生成所述驻光波；

调节所述带电粒子束与所述驻光波之间的相互作用以修改所述带电粒子束；

在与所述驻光波的所述相互作用之后，激活带电粒子检测器以从修改后的所述带电粒子束中检测带电粒子；以及

基于检测到的所述带电粒子确定所述带电粒子束的特性。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述光源还被配置为在垂直于所述主光轴的平面中生成所述驻光波。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述带电粒子束的修改包括所述带电粒子束的路径、位置、尺寸或强度的修改。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述带电粒子的所述尺寸的修改包括所述带电粒子束的放大或截断。

6.根据权利要求2所述的系统，其中所述相互作用的调节包括所述次光轴相对于所述主光轴的位置的调节。

7.根据权利要求2所述的系统，其中所述相互作用的调节还包括调节所述次光轴的所述位置以使所述带电粒子束与所述驻光波相互作用。

8.根据权利要求2所述的系统，其中所述相互作用的调节还包括调节所述次光轴的所述位置以使所述带电粒子束与所述驻光波之间的所述相互作用发生变化。

9.根据权利要求8所述的系统，其中所述相互作用的所述变化包括所述带电粒子束与所述驻光波之间从基本上没有相互作用到有相互作用的变化。

10.根据权利要求6所述的系统，其中所述次光轴的所述位置被调节为与所述主光轴相交。

11.根据权利要求10所述的系统，其中将所述次光轴调节为与所述主光轴相交导致所述带电粒子束的放大。

12.根据权利要求6所述的系统，其中所述次光轴的所述位置的调节还包括：使所述驻光波移位，使得所述次光轴与所述带电粒子束的外围的一部分相交。

13.根据权利要求12所述的系统，其中使所述驻光波移位以使所述次光轴与所述带电粒子束的所述外围的所述一部分相交导致所述带电粒子束的截断。

14.根据权利要求2所述的系统，其中所述带电粒子检测器包括闪烁体、像素化闪烁体、电荷耦合装置、法拉第杯、光谱仪或电子捕获检测器。

15.一种存储指令集的非暂态计算机可读介质，所述指令集能够由带电粒子束装置的一个或多个处理器执行以使所述带电粒子束装置执行对多束系统的多个带电粒子束进行轮廓分析的方法，所述方法包括：

激活光源以生成多个光束；

通过调节所述光束与由带电粒子源生成的多个带电粒子束之间的相互作用来修改所述光束；

在与所述带电粒子束的所述相互作用之后，使用光学检测器从修改后的所述光束中检测光信号；以及

基于检测到的所述光信号确定所述带电粒子束中的每个带电粒子束的特性。