[发明专利]使用用于流体注入器设备的基于压力的电机控制来递送流体的系统和方法

权利要求书

1.流体注入器系统，其被配置为用于向患者给药至少一种流体，所述流体注入器系统包括：

存储器，用于在其中存储在使用流体注入器执行流体递送过程期间要递送的编程的流率和编程的流率的最大可允许偏差；

至少一个传感器，被配置为用于测量所述至少一种流体的压力，其中所述压力由所述流体注入器的至少一个驱动部件在执行流体递送过程期间生成；和

控制设备，与所述流体注入器的至少一个驱动部件可操作地相关联，所述控制设备包括至少一个处理器，所述至少一个处理器被编程或配置成执行包括以下的操作：

(a)基于在指定时间间隔内由所述至少一个传感器测量的压力改变，确定在所述流体递送过程的指定时间间隔期间的实际流率；

(b)确定在所述指定时间间隔内所述实际流率与所述编程的流率的偏差；和

(c)基于所述编程的流率和在所述指定时间间隔内所述实际流率与所述编程的流率的偏差，计算所述指定时间间隔之后的后续时间间隔的新的编程的流率。

2.根据权利要求1所述的流体注入器系统，其中包括所述至少一个处理器的所述控制设备被进一步编程或配置为执行包括以下的操作：将所述最大可允许偏差与所述指定时间间隔内所述实际流率与所述编程的流率的偏差进行比较，以确定流率校正，并基于所述编程的流率和所述流率校正计算所述后续时间间隔的新的编程的流率。

3.根据权利要求1或2所述的流体注入器系统，其中，所述实际流率与所述编程的流率的偏差受预定界限的限制。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的流体注入器系统，其中，如果所述实际流率与所述编程的流率的偏差大于所述最大可允许偏差，则所述流率校正等于所述最大可允许偏差。

5.根据权利要求4所述的流体注入器系统，其中，所述实际流率与所述编程的流率的偏差和所述最大可允许偏差之间的差被存储为缓冲偏差，所述缓冲偏差用于在第二时间间隔之后的一个或多个后续时间间隔中确定新的流率校正。

6.根据权利要求2-5中任一项所述的流体注入器系统，其中，如果所述实际流率与所述编程的流率的偏差小于或等于所述最大可允许偏差，则所述流率校正等于所述实际流率。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的流体注入器系统，其中，所述控制设备被配置成使用机器学习模型，所述机器学习模型被设计成接收与所述流体注入过程相关联的数据作为输入，并提供驱动所述一个或多个驱动部件来以所述编程的流率递送期望体积的流体的指令作为输出。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的流体注入器系统，其中，确定所述指定时间间隔期间的所述实际流率的操作包括，在所述指定时间间隔开始时使用所述至少一个传感器测量第一压力，并且在所述指定时间间隔结束时使用所述至少一个传感器测量第二压力，并将所述第一压力和所述第二压力转换成对应于所述指定时间间隔期间的所述实际流率的压力改变。

9.根据权利要求8所述的流体注入器系统，其中，所述压力改变基于所述第二压力和所述第一压力之间的差，以及由所述流体注入器的一个或多个特征确定的至少一个缩放因子。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的流体注入器系统，其中，所述至少一个传感器是力传感器，其被配置为用于测量所述至少一个驱动部件的力输出。

11.根据权利要求1-9中任一项所述的流体注入器系统，其中，所述至少一个传感器是与所述流体注入器的流体储器或流体路径部件相关联的压力传感器。

12.根据权利要求2-11中任一项所述的流体注入器系统，其中，每个后续时间间隔的所述流率校正是基于所述最大可允许偏差和每个后续时间间隔内所述实际流率与所述新的编程的流率的偏差之间的差、以及来自至少一个先前时间间隔的缓冲偏差。