[发明专利]带防眩层的基材和图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080078781.X 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN114730023A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 江口和辉;保坂和义 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带防眩层 基材 图像 显示装置 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种带防眩层的基材,其特征在于,具有:

基材;以及

防眩层,直接形成在所述基材上或借助其他层形成在所述基材上,在所述防眩层的表面具有凹凸结构,

所述防眩层由防眩性覆膜形成用组合物的固化物形成,所述防眩性覆膜形成用组合物含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷,所述防眩层的凸部表面覆盖率为5%~70%。

2.根据权利要求1所述的带防眩层的基材,其中,

所述具有含氟有机基团的聚硅氧烷含有下述式(F)所示的有机基团,

CF3(CF2)kCH2CH2-* (F)

式中,k为整数0~12,*表示键合位置。

3.根据权利要求1或2所述的带防眩层的基材,其中,

所述聚硅氧烷是将含有下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物的烷氧基硅烷成分缩聚而得到的,

R11Si(OR12)3 (1)

R11表示被氟原子取代的所述有机基团,R12表示碳原子数1~5的烃基。

4.根据权利要求3所述的带防眩层的基材,其中,

所述聚硅氧烷进一步是将下述烷氧基硅烷成分缩聚而得到的,该烷氧基硅烷成分含有选自由下述式(2)所示的烷氧基硅烷化合物和下述式(3)所示的烷氧基硅烷化合物构成的组中的至少一种,

Si(OR2)4 (2)

R31nSi(OR32)4-n (3)

式中,R2表示烃基;R31表示未被氟原子取代的有机基团或氢原子,R32表示碳原子数1~5的烃基,n为整数1~3。

5.根据权利要求4所述的带防眩层的基材,其中,

所述未被氟原子取代的有机基团选自:碳原子数1~18的烷基、碳原子数2~18的烯基、环烷基、含(甲基)丙烯酰氧基的烷基、含羟基的烷基、含脲基的烷基、含氨基的烷基、含环氧基的烷基、含巯基的烷基、含异氰酸酯基的烷基或芳基。

6.根据权利要求4或5所述的带防眩层的基材,其中,

所述式(2)所示的烷氧基硅烷化合物为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷或四丁氧基硅烷。

7.根据权利要求4~6中任一项所述的带防眩层的基材,其中,

所述式(3)所示的烷氧基硅烷化合物为甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-脲基丙基三甲氧基硅烷或γ-脲基丙基三乙氧基硅烷。

8.根据权利要求1~7所述的带防眩层的基材,其中,

所述防眩性覆膜形成用组合物含有选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯以及甲基异丁基酮中的至少一种。

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