[发明专利]用于在体外确定组织特性的参考消除系统、设备和方法

权利要求书

1.一种用于确定组织样本的特性的组织分析设备，其包括：

感测模块，所述感测模块包括：

第一柱，所述第一柱设置在基座上，所述第一柱具有设置在其中的磁性材料并且被配置为使得所述组织样本附着于其上；

第二柱，所述第二柱设置在所述基座上并被配置为使得所述组织样本附接到其上；以及

位移传感器，所述位移传感器被配置为输出对应于所述第一柱的位移的位移信号；

参考模块，所述参考模块包括参考传感器，所述参考传感器被配置为输出对应于参考输入的参考信号；以及

存储逻辑的非暂时性机器可读存储介质，所述逻辑在由处理器执行时使得所述处理器执行操作，所述操作包括：

确定基于所述位移信号的位移值；

确定基于所述参考信号的参考值；

确定基于所述位移值和所述参考值的参考消除位移值；以及

确定基于所述参考消除位移值的所述特性。

2.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，所述感测模块还包括第三柱，其中，所述第一柱、所述第二柱和所述第三柱以三角形配置布置。

3.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，所述感测模块还包括第三柱和第四柱，并且其中，所述第一柱、所述第二柱、所述第三柱和所述第四柱以矩形配置布置。

4.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，所述感测模块还包括第三柱、第四柱和第五柱，其中，所述第一柱、所述第二柱、所述第三柱、所述第四柱和所述第五柱以五边形配置布置。

5.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，确定所述参考消除位移值是基于从所述位移值中减去所述参考值。

6.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，确定所述位移值包括将所述位移信号乘以线性因子并且乘以非线性因子。

7.根据权利要求6所述的组织分析设备，其中，确定所述位移值不包括在将所述位移信号乘以所述线性因子之前对所述位移信号进行频率过滤。

8.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，确定所述参考值包括将所述参考信号乘以线性因子。

9.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，确定所述特性包括将所述参考消除位移值乘以线性因子。

10.根据权利要求9所述的组织分析设备，其中，所述线性因子是所述第一柱的位移与由所述组织样本施加的力之间的相关性因子。

11.根据权利要求1所述的组织分析设备，

其中，确定所述位移值包括将所述位移信号乘以第一线性因子并且乘以非线性因子，

其中，确定所述参考值包括将所述参考信号乘以不同于所述第一线性因子的第二线性因子，并且

其中，确定所述特性包括将所述参考消除位移值乘以不同于所述第一线性因子和所述第二线性因子的第三线性因子。

12.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，所述位移传感器设置在距所述第一柱第一距离处并且所述参考传感器设置在距所述第一柱更大的第二距离处。

13.根据权利要求12所述的组织分析设备，其中，所述第二距离足够大，使得所述参考传感器不感测来自所述组织样本的任何信号幅值。

14.根据权利要求1所述的组织分析设备，其中，所述感测模块还包括：

第三柱，所述第三柱被配置为粘附到第二组织样本并具有设置在其中的第二磁性材料；

第四柱，所述第四柱被配置为粘附到所述第二组织样本；以及

第二位移传感器，所述第二位移传感器被配置为输出对应于所述第三柱的位移的第二位移信号。