[发明专利]量子点、包括该量子点的显示装置及显示装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080070746.3 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN114667331A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 方畯昰;张起晳;文晶玟;郑顺信;崔东勋;金泂宗;高在完 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司;高丽大学校产学协力团
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/88;C08F212/14;C08F8/38;H01L51/50;H01L51/56;H01L33/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 原宏宇;刘久亮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 包括 显示装置 制造 方法
【说明书】:

本说明书的实施方式涉及一种量子点、包括该量子点的显示装置及该显示装置的制造方法。更具体的,实施方式可以提供一种量子点,该量子点包括承载第一重复单元的空穴传输官能团和可光交联的官能团,并且实施方式可以提供一种显示装置,其包括能够通过光刻工艺形成为量子点发光层的量子点发光二极管。

技术领域

实施方式涉及量子点、包括该量子点的显示装置以及用于制造该显示装置的方法。更具体地,实施方式可以提供能够通过包括空穴传输和光交联配体的光刻工艺形成图案化层的量子点、包括该量子点的显示装置以及制造该显示装置的方法。

背景技术

量子点正在被测试其在诸如太阳能电池、生物传感器、照明、显示器和医疗之类的领域的适用性。量子点作为下一代显示材料吸引了人们的注意,因为量子点可以实现具有优异色彩再现的显示装置。

可以使用光致发光现象和电致发光现象将量子点应用于显示领域。电致发光是指当电子被注入或强电场被施加到具有光学带隙的半导体材料时的发光。量子点电致发光显示器使用量子点作为半导体材料。使用量子点作为半导体材料的发光二极管被称为量子点发光二极管(QD-LED)。

发明内容

技术问题

用于形成量子点发光二极管的量子点发光层的技术包括例如转印技术和喷墨技术。

转印技术的可靠性较低,因为固化的量子点发光层在物理接触过程中可能会被破坏。另外,该工艺花费大量时间,并且存在难以实现高分辨率的问题。

喷墨技术的问题在于,量子点发光层的密度随着溶剂干燥而改变,使得难以确保装置的光效率,该工艺花费大量时间,并且难以实现高分辨率。

因此,本公开的发明人已经研究了一种通过光刻技术形成量子点发光层的方法,该方法具有优异的可靠性,可以减少工艺时间,并且可以在利用现有设备的同时制造高分辨率显示装置。结果,发明了一种能够通过光刻技术形成量子点发光层的量子点、包括该量子点的显示装置以及制造该显示装置的方法。

根据本公开的实施方式要解决的问题不限于上述问题,并且其它未提及的问题将根据以下描述而为本领域技术人员清楚理解。

技术方案

本公开的一个实施方式是提供一种量子点,其能够通过光刻形成量子点发光层,具有优异可靠性,缩短的工艺时间,并实现高分辨率。前述量子点包括配体,该配体是包括第一重复单元和第二重复单元的共聚物。前述第一重复单元包括一个或更多个空穴传输官能团,并且前述第二重复单元包括一个或更多个可光交联的官能团。

本公开的实施方式提供包括上述量子点的具有优异可靠性、缩短的工艺时间并且可以实现高分辨率的显示装置。上述显示装置包括第一电极、第二电极和位于第一电极和第二电极之间的发光层。上述发光层包括上述量子点。

本公开的实施方式提供一种制造显示装置的方法,该显示装置能够通过光刻工艺形成包括量子点的发光层,并且通过简单的工艺而具有优异的可靠性和高分辨率。上述用于制造显示装置的方法包括以下步骤:在基板上涂敷包含上述量子点的溶液;暴露溶液;以及蚀刻暴露的溶液以形成包含上述量子点的发光层。

技术效果

根据本公开的实施方式,通过使用包含配体的量子点,可以通过光刻工艺形成包含前述量子点的发光层,该配体是包括第一重复单元和第二重复单元的共聚物,第一重复单元包括一个或更多个空穴传输官能团,并且第二重复单元包括一个或更多个可光交联的官能团。

另外,由于可以通过使用量子点经由光刻工艺来形成所述发光层,因此可以提供具有优异可靠性、减少的工艺时间和优异分辨率的显示装置。

另外,根据本公开的实施方式,包括具有上述量子点的发光层的显示装置可以通过光刻工艺形成所述发光层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司;高丽大学校产学协力团,未经乐金显示有限公司;高丽大学校产学协力团许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080070746.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top