[发明专利]光刻过程的子场控制和相关联设备

权利要求书

1.一种确定用于光刻设备内的、在将图案的图像投影至衬底时使用的透镜的操纵器的动态控制配置文件的方法，所述方法包括：

获得与被投影图像的定位相关联的位置参数的跨越所述衬底的至少一部分上的空间变化；和

基于图像对比度劣化的期望的稳定或减轻来确定用于所述操纵器的所述动态控制配置文件，所述图像对比度劣化由于与被配置成对所述位置参数的所述空间变化进行校正的平台控制配置文件相关联的动态平台位置误差的预期影响而产生，其中用于所述操纵器的所述动态控制配置文件被配置成在投影期间动态地调整被投影图像的几何变形。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述位置参数与根据在所述衬底上所执行的测量而获得的对准数据和/或重叠数据相关联。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述动态平台位置误差被表达为在所述平台的控制期间产生的位置误差的移动标准偏差。

4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中所述几何变形是在平行于扫描方向的方向上的放大。

5.一种确定用于光刻设备内的、在将图案的图像投影至衬底时使用的平台的平台控制配置文件的方法，所述方法包括：

获得与被投影图像的定位相关联的位置参数的跨越所述衬底的至少一部分上的空间变化；和

基于所述位置参数的所述空间变化和可动态控制的透镜操纵器的用于稳定或减轻图像对比度劣化的校正潜力来确定用于所述平台的所述控制配置文件，所述图像对比度劣化由于与被配置成对所述位置参数的所述空间变化进行校正的所述平台控制配置文件相关联的动态平台位置误差的预期影响而产生，其中所述可动态控制的透镜操纵器被配置成在投影期间动态地调整被投影图像的几何变形。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述位置参数与根据在所述衬底上所执行的测量而获得的对准数据和/或重叠数据相关联。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其中所述动态平台位置误差被表达为在所述平台的控制期间产生的位置误差的移动标准偏差。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的方法，其中所述透镜操纵器的所述校正潜力与在平行于扫描方向的方向上被应用至所述图像的可动态控制的放大率相关联。

9.一种执行共同确定的平台控制和动态透镜控制以用于控制使用光刻设备在曝光场上曝光图案的光刻过程的方法，所述方法包括：共同确定平台控制配置文件和动态透镜控制配置文件，所述平台控制配置文件被配置成校正一个或更多个空间上变化的性能参数，所述动态透镜控制配置文件用以减轻或稳定所述平台控制对经曝光的图案的对比度的影响，其中所述动态透镜控制配置文件被配置成在曝光期间动态地调整经曝光的图案的几何变形。

10.根据权利要求9所述的方法，其中共同确定包括将约束应用至所述动态透镜控制配置文件以便限制所述动态透镜控制配置文件对所述一个或更多个性能参数的影响。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述动态透镜控制配置文件能够操作以控制至少一个或更多个可变形反射器。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，其中共同确定的控制配置文件被确定用于子场控制。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，包括将解卷积方案应用于至少所述平台控制配置文件，其中所述解卷积方案的结构基于照射轮廓在扫描方向上的尺寸，至少所述平台控制配置文件包括经卷积的控制配置文件，所述经卷积的控制配置文件与如由曝光狭缝所限定的所述照射轮廓相卷积，所述解卷积方案对所述经卷积的控制配置文件进行解卷积以最小化源自所述卷积的误差。