[发明专利]光学系统、光学设备及光学系统的制造方法在审
申请号: | 202080059645.6 | 申请日: | 2020-08-26 |
公开(公告)号: | CN114341696A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 山下雅史;伊藤智希;栗林知宪;古井田启吾;三轮哲史;小松原阳子;渡边胜也;野中杏菜;槙田步 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B15/173 | 分类号: | G02B15/173;G02B15/177;G02B15/167 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 季莹;方应星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 光学 设备 制造 方法 | ||
光学系统(LS)具有满足以下条件式的透镜(L11):‑0.010ndLZ‑(2.015‑0.0068×νdLZ),50.00νdLZ65.00,0.545θgFLZ,‑0.010θgFLZ‑(0.6418‑0.00168×νdLZ),其中,ndLZ:透镜的对d线的折射率,νdLZ:透镜的以d线为基准的阿贝数,θgFLZ:透镜的相对部分色散。
技术领域
本发明涉及光学系统、光学设备及光学系统的制造方法。
背景技术
近年来,使用于数码相机或摄像机等摄像装置的摄像元件,正在推进高像素化。设置于使用了这种摄像元件的摄像装置的摄影镜头,期望是除了良好地校正球面像差、彗差等基准像差(单一波长的像差)以外,还良好地校正色差以使得在白色光源下没有像的渗色的、具有高分辨率的镜头。特别是,在色差的校正中,除了初级消色差以外,还期望良好地对二阶光谱进行校正。作为色差的校正手段,例如,公知有使用具有异常色散性的树脂材料的方法(例如,参照专利文献1)。如上所述,伴随近年来的摄像元件的高像素化,期望良好地对各像差进行校正的摄影镜头。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-194609号公报
发明内容
本发明的光学系统具有满足以下条件式的透镜:
-0.010ndLZ-(2.015-0.0068×νdLZ)
50.00νdLZ65.00
0.545θgFLZ
-0.010θgFLZ-(0.6418-0.00168×νdLZ)
其中,ndLZ:所述透镜的对d线的折射率
νdLZ:所述透镜的以d线为基准的阿贝数
θgFLZ:所述透镜的相对部分色散,在将所述透镜的对g线的折射率设为ngLZ,将所述透镜的对F线的折射率设为nFLZ,将所述透镜的对C线的折射率设为nCLZ时,通过下式进行定义,即,
θgFLZ=(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。
本发明的光学设备构成为具备上述光学系统。
本发明的光学系统的制造方法以所述光学系统具有满足以下条件式的透镜的方式,在镜头镜筒内配置各透镜:
-0.010ndLZ-(2.015-0.0068×νdLZ)
50.00νdLZ65.00
0.545θgFLZ
-0.010θgFLZ-(0.6418-0.00168×νdLZ)
其中,ndLZ:所述透镜的对d线的折射率
νdLZ:所述透镜的以d线为基准的阿贝数
θgFLZ:所述透镜的相对部分色散,在将所述透镜的对g线的折射率设为ngLZ,将所述透镜的对F线的折射率设为nFLZ,将所述透镜的对C线的折射率设为nCLZ时,通过下式进行定义,即,
θgFLZ=(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。
附图说明
图1是第1实施例的光学系统的无限远对焦状态下的镜头结构图。
图2(A)、图2(B)以及图2(C)分别是第1实施例的光学系统的无限远对焦时、中间距离对焦时、近距离对焦时的各像差图。
图3是第2实施例的光学系统的无限远对焦状态下的镜头结构图。
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