[发明专利]曝光头和图像形成装置

说明书

曝光头106设置有多个发光元件阵列芯片400。从作为多个发光元件阵列芯片中的每一个的两个长边之一的第一边402B到密封区域409的平行于且靠近第一边的一个长边409B的第一距离(wa2‑wb2)比从作为两个长边中的另一边的第二边402T到密封区域的平行于且靠近第二边的另一个长边409T的第二距离(wa3‑wb3)短。从第一边到发光区域404的平行于且靠近第一边的一个长边404B的第三距离wa2比从第二边到发光区域的平行于且靠近第二边的另一个长边404T的第四距离wa3短。

技术领域

本发明涉及曝光头和图像形成装置。

背景技术

一种电子照相图像形成装置包括被驱动旋转的感光构件、被配置为用光对感光构件进行曝光以形成静电潜像的曝光部分、被配置为通过使用显影剂对形成在感光构件上的静电潜像进行显影的显影部分，以及被配置为将用显影剂显影的图像转印到片材上的转印部分。在这种情况下，作为曝光部分，激光扫描仪、曝光头等是已知的。激光扫描仪是指被配置为通过偏转构件使从光源发射的光偏转，使得从光源发射的光被扫描到感光构件的表面上的曝光设备。同时，曝光头是指不包括偏转构件并且其中多个光源在与感光构件的表面移动的方向正交的方向上并排布置的曝光设备。曝光头包括被配置为将从多个发光元件发射的光成像到感光构件上的透镜阵列。

在专利文献1描述的曝光头中，为了抑制作为光源的多个有机EL由于水分和氧气而劣化，通过利用金属接合将有机EL电路板和驱动IC板彼此贴合而密封有机EL。另外，在专利文献1描述的曝光头中，多个有机EL电路板以交错的方式布置。这种布置的原因是因为与包括一个长有机EL电路板的曝光头相比，可以降低制造成本。

[引文列表]

[专利文献]

PTL 1：日本专利申请公开No.2015-162428

发明内容

[技术问题]

在其中各自由多个发光元件形成的发光元件阵列芯片以交错方式布置在电路板上的曝光头中，从光利用效率的观点来看，优选地减小各个发光元件阵列芯片的发光区域与透镜阵列的中心之间的距离。但是，为了抑制水分和氧气从发光元件阵列芯片的端部进入，需要用于密封发光区域的密封材料，因此发光区域与透镜阵列的中心之间的距离增加，这导致了光利用效率降低的问题。

鉴于上述情况，本发明的一个目的在于抑制曝光头的光利用效率的降低。

[问题的解决方案]

为了解决上述问题，根据本发明的一个实施例，提供了一种曝光头，包括：多个发光元件阵列芯片；发光区域，设置在多个发光元件阵列芯片的每一个发光元件阵列芯片中，并且包括多个发光部分；密封材料，用于覆盖发光区域的发光面和发光区域的侧面；以及透镜阵列，被配置为会聚从发光区域发射的光，其中，如从发光面侧观察到的，施加有密封材料的密封区域包括发光区域，其中多个发光元件阵列芯片中的每一个发光元件阵列芯片具有矩形形状，其中从作为多个发光元件阵列芯片中的每一个发光元件阵列芯片的两个长边之一的第一边到密封区域的平行于且靠近第一边的一个长边的第一距离比从作为多个发光元件阵列芯片中的每一个发光元件阵列芯片的两个长边中的另一个的第二边到密封区域的平行于且靠近第二边的另一个长边的第二距离短，并且其中从第一边到发光区域的平行于且靠近第一边的一个长边的第三距离比从第二边到发光区域的平行于且靠近第二边的另一个长边的第四距离短。

[发明的有益效果]

根据本发明，可以抑制曝光头的光利用效率的降低。

附图说明

图1是图像形成装置的截面图。

图2A是用于例示曝光头相对于感光鼓的布置的视图。

图2B是用于例示从发光元件组发射的光束通过棒状透镜阵列会聚到感光鼓上的视图。