[发明专利]真空泵以及用于真空泵的电磁体单元在审
| 申请号: | 202080056439.X | 申请日: | 2020-08-17 | 
| 公开(公告)号: | CN114270672A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 | 
| 发明(设计)人: | 时永伟 | 申请(专利权)人: | 埃地沃兹日本有限公司 | 
| 主分类号: | H02K11/21 | 分类号: | H02K11/21;H02K11/02;H02K11/00;F04D19/04 | 
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷;司昆明 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 真空泵 以及 用于 磁体 单元 | ||
提供一种能够抑制位移传感器受到噪音的影响、并且能够节省空间地设置的电磁体单元以及具备该电磁体单元的真空泵。电磁体单元(50)具备:径向电磁体(51),将轴(21)控制在既定位置;径向传感器(53),检出轴(21)的位置;印刷基板(55),夹设在径向电磁体(51)和径向传感器(53)之间,设置有将相互对应的两个径向传感器(53,53)的线圈(53c)彼此连结的传感器用配线图案(56)以及将对应的两个径向电磁体(51,51)的线圈(51c)彼此连结的电磁体用配线图案(57)。传感器用配线图案(56)以及电磁体用配线图案(57)配置为从轴向(A)看不重叠。
技术领域
本发明涉及真空泵以及用于真空泵的电磁体单元。
背景技术
在存储器、集成电路等的半导体装置的制造中,为了避免空气中的尘埃等的影响,进行绝缘膜、金属膜、半导体膜等的成膜的处理及进行蚀刻的处理在高真空状态的工艺腔室内进行。为了工艺腔室内的排气,使用例如涡轮分子泵等的真空泵。
作为这样的真空泵,公知有下述真空泵:在具有从外部吸入气体的吸气口和将吸入的气体向外部排气的排气口的壳体内,配置有涡轮分子机构,该涡轮分子机构具有在轴方向上交互地多级配列的叶片以及固定翼。
此外,真空泵具有电磁体单元,该电磁体单元基于各种传感器所检出的设置有叶片的旋转轴的位移而进行旋转轴的位置控制。电磁体单元为,若进行旋转轴的位移检出的位移传感器受到外部噪音的干扰,则无法正常地进行旋转轴的位移检出。
因此,为了降低这样的噪音,将噪音的产生源和位移传感器分离地设置或设置专利文献1所公开的护罩。该护罩夹在径向电磁体和径向用位移传感器之间、以及高频马达和径向用位移传感器之间的至少某一方之间,遮断径向用传感器相关的径向电磁体或者高频马达的磁场以及电场。
专利文献1:日本实开平4-14815号公报。
发明所要解决的课题
但是,将噪音的产生源和位移传感器分离设置时,需要考虑组装精度的变动而具有余量地确保不易受到噪音的影响的分离距离。
此外,具备上述的护罩的真空泵中,存在与夹装遮断径向电磁体或者高频马达的磁场以及电场的护罩相对应而真空泵在轴方向上大型化的问题。
发明内容
本发明所要解决的课题
因此,产生了为了抑制位移传感器受到噪音的影响并且节省空间地设置电磁体单元的技术课题,本发明的目的在于解决该课题。
解决课题的手段
为了实现上述目的,本发明所述的真空泵为具有进行旋转轴的位置控制的电磁体单元的真空泵,前述电磁体单元具备:位移传感器,检出前述旋转轴的位置;电磁体,将前述旋转轴控制在既定位置;印刷基板,夹设在前述位移传感器和前述电磁体之间、设置有将对应的两个前述位移传感器的线圈彼此连结的传感器用配线图案以及将对应的两个前述电磁体的线圈彼此连结的电磁体用配线图案,前述传感器用配线图案以及前述电磁体用配线图案配置为从前述旋转轴的轴方向观察不重叠。
根据该构成,传感器用配线图案和电磁体用配线图案分离,从而能够抑制由电磁体产生的电磁噪音对位移传感器产生干扰,能够防止电磁噪音引起的位移传感器的误检测及不良。
此外,本发明所述的真空泵中,优选前述传感器用配线图案配置于前述印刷基板的一面侧,前述电磁体用配线图案配置在前述印刷基板的另一面侧。
根据该构成,传感器用配线图案和电磁体用配线图案在轴方向中分离,从而能够抑制由电磁体产生的电磁噪音对位移传感器产生干扰,能够防止电磁噪音引起的位移传感器的误检测及不良。
此外,本发明所述的真空泵中,优选前述电磁体用配线图案在前述旋转轴的径方向中配置在前述传感器用配线图案的外侧。
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