[发明专利]具有蒸汽处理雾度抗性的玻璃组合物及其方法

说明书

包含从玻璃基制品的表面延伸至压缩深度的压缩应力层的玻璃基制品是通过将玻璃基基材暴露于含水蒸气的环境中形成的。所述玻璃基基材具有经选择以避免在处理工艺中形成雾度的组合物。形成玻璃基制品的方法可包括升高的压力和/或多次暴露于含水蒸气的环境，所述环境经选择以避免在处理工艺中形成雾度。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年5月16日提交的序列号为62/848,777的美国临时申请的权益，通过引用将其全部内容并入本文。

技术领域

本公开涉及通过蒸汽处理强化的玻璃基制品，用于形成玻璃基制品的无碱玻璃组合物，以及蒸汽处理以强化玻璃基制品的方法。

背景技术

便携式电子设备，例如智能手机、平板电脑和可穿戴设备(例如手表和健身追踪器)，不断变得更小和更复杂。因此，通常用于这种便携式电子设备的至少一个外表面上的材料也不断变得更复杂。例如，随着便携式电子设备变得更小和更薄以满足消费者需求，在这些便携式电子设备中使用的显示屏盖和外壳也变得更小和更薄，这导致对用于形成这些部件的材料的更高性能要求。

因此，需要具有更高性能(例如抗损坏性)以及制造成本低且方便的材料，以用于便携式电子装置中。

发明内容

在方面(1)中，提供了一种玻璃基制品。所述玻璃基制品包含：从所述玻璃基制品的表面延伸至层深度的含氢层，其中所述含氢层的氢浓度从最大氢浓度至所述层深度降低；从所述玻璃基制品的表面延伸至压缩深度的压缩应力层，其中所述压缩应力层包含大于或等于10MPa的压缩应力；以及在玻璃基制品中心处的组合物，其包含：

大于或等于55mol％至小于或等于70mol％的SiO₂，

大于或等于3mol％至小于或等于17mol％的Al₂O₃，

大于或等于3mol％至小于或等于15mol％的P₂O₅，

大于或等于1mol％至小于或等于7mol％的Li₂O，和

大于或等于5mol％至小于或等于20mol％的K₂O。

在方面(2)中，提供了方面(1)所述的玻璃基制品，其中在所述玻璃基制品中心处的所述组合物进一步包含大于或等于0mol％至小于或等于1mol％的Na₂O。

在方面(3)中，提供了方面(1)或(2)所述的玻璃基制品，其中在所述玻璃基制品中心处的所述组合物进一步包含大于或等于0mol％至小于或等于0.5mol％的SnO₂。

在方面(4)中，提供了方面(1)-(3)中任一项所述的玻璃基制品，其中所述压缩应力层包含大于或等于50MPa的压缩应力。

在方面(5)中，提供了方面(1)-(4)中任一项所述的玻璃基制品，其中所述压缩应力层包含大于或等于300MPa的压缩应力。

在方面(6)中，提供了方面(1)-(5)中任一项所述的玻璃基制品，其中所述压缩深度大于或等于5μm。

在方面(7)中，提供了方面(1)-(6)中任一项所述的玻璃基制品，其中所述压缩应力层包含大于或等于300MPa的压缩应力，并且所述压缩深度大于或等于40μm。

在方面(8)中，提供了方面(1)-(7)中任一项所述的玻璃基制品，其中所述压缩深度大于或等于100μm。

在方面(9)中，提供了方面(1)-(8)中任一项所述的玻璃基制品，其中具有与所述制品中心处的所述组合物等同的组合物的玻璃具有小于或等于1715℃的200P温度。