[发明专利]用于移除边缘保护层及残余金属硬掩模组分的冲洗剂及其使用方法

权利要求书

1.一种冲洗剂，其包含

(i)介于约15重量％与约35重量％之间的乙酸及

(ii)介于约85重量％与约65重量％之间的具有结构B的化合物：

其中R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g及R_h中的每一者可独立地为氢、经取代或未经取代的(C_1-6)烷基、经取代或未经取代的卤化(C_1-6)烷基、经取代或未经取代的(C_1-6)烷基羰基、卤素或羟基。

2.根据权利要求1的冲洗剂，其中结构B中的R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g及R_h中的每一者为氢。

3.根据权利要求1至2中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂含有约15重量％的乙酸。

4.根据权利要求1至2中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂含有约20重量％的乙酸。

5.根据权利要求1至2中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂含有约25重量％的乙酸。

6.根据权利要求1至2中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂含有约30重量％的乙酸。

7.根据权利要求1至2中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂含有约35重量％的乙酸。

8.根据权利要求1至7中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂基本上由乙酸及具有结构B的化合物组成。

9.根据权利要求1至7中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂由乙酸及具有结构B的化合物组成。

10.根据权利要求1至9中任一项的冲洗剂，其中该冲洗剂适用于移除由掩蔽组合物形成的边缘保护层，该掩蔽组合物包含

a.包含具有结构(I)的单元的聚合物：

其中X选自由-SO₂-、-C(＝O)-及-O-组成的组；

A是直接键或A选自由结构(II)组成的组：

R₁、R₂、R₃、R₄及R₅各自独立地选自由以下组成的组：H、卤基、(C_1-3)烷基、(C_1-3)氟化烷基、羟基、(C_1-3)烷氧基及(C_1-3)烷基羰基；及

q、r、s及t各自独立地选自由以下组成的组：0、1、2、3及4；及

b.有机溶剂，

其中该聚合物的平均分子量小于50000。

11.根据权利要求10的冲洗剂，其中具有结构(I)的聚合物单元包括以下中的一者：

a.

b.

c.及

d.

12.一种清洁晶圆或基板的方法，其包括：用冲洗剂洗涤该晶圆或基板，该冲洗剂包含介于约15重量％与约35重量％之间的乙酸及介于约85重量％与约65重量％之间的具有结构B的化合物：

其中R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g及R_h中的每一者可独立地为氢、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的卤化烷基、经取代或未经取代的烷基羰基、卤素及羟基。