[发明专利]用于制造纳米颗粒的系统和方法

权利要求书

1.用于制造纳米颗粒的系统，所述系统包含：

混合区；

第一导管，其被配置成允许第一溶剂沿第一流动方向流到所述混合区；

第二导管，其被配置成允许第二溶剂流到所述混合区，其中：

所述第二导管同轴延伸到所述第一导管中；

所述第二导管包含基本上正交于所述第一流动方向的开口，并且其中所述开口被配置为在所述混合区以第二流动方向引入所述第二溶剂流；

其中所述第二流动方向基本上正交于所述第一流动方向；并且

其中所述第一溶剂或所述第二溶剂之一含有纳米颗粒前体。

2.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述第二导管插入所述第一导管中并且同轴突出到所述第一导管中，使得所述混合区出现在所述第一导管的下游。

3.如前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述第二导管包含多个开口。

4.如前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述第二导管包含两个开口，其中所述第二开口位于所述第一开口的相对侧。

5.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述混合区处的平均雷诺数为约400-约12,000。

6.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述第一导管包含圆柱形管，并且其中所述第一流动方向包含所述管的轴向方向和所述第二流动方向包含所述圆柱形管的径向方向。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述第二导管包含具有侧开口的针，其中所述侧开口面向所述圆柱形管的径向方向。

8.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述第一溶剂是反溶剂，并且所述第二溶剂是含有纳米颗粒前体的有机溶剂。

9.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中控制至少一个参数以控制纳米颗粒分散体中纳米颗粒的尺寸和/或所述系统的纳米颗粒制造速率，其中所述至少一个参数选自下组：雷诺数、流速、所述反溶剂与溶剂的比率、前体浓度和前体组成。

10.制造纳米颗粒的方法，所述方法包含：

(i)将第一溶剂流以第一流动方向通过第一导管供应到混合区；

(ii)将第二溶剂流通过第二导管供应到混合区，其中所述第二导管同轴延伸至所述第一导管中，用于将所述第二溶剂流引入所述第一溶剂流内，

其中所述第一溶剂或第二溶剂中的至少一种含有纳米颗粒前体；

(iii)将所述第二溶剂流以第二流动方向引入所述第一溶剂流中，其中所述第二流动方向基本上正交于所述第一流动方向；和

(iv)将所述第一溶剂流和第二溶剂流混合以形成包含基于纳米颗粒前体的纳米颗粒分散体的混合流。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一溶剂是反溶剂，并且所述第二溶剂是含有纳米颗粒前体的有机溶剂。

12.根据权利要求10或11的方法，其中步骤(iv)包含逆流混合。

13.根据权利要求10-12中任一项所述的方法，其中步骤(iii)发生在所述第一导管的下游。

14.根据权利要求10-13中任一项所述的方法，其中所述混合流的雷诺数为约400-约12,000。

15.根据权利要求10-14中任一项所述的方法，其中所述混合流的总流速为约30mL/min-约700mL/min。

16.根据权利要求10-15中任一项所述的方法，其中所述制造的纳米颗粒的尺寸基本上均匀。