[发明专利]阻隔膜、层积体和包装产品

说明书

[课题]提高蒸镀膜对于基材的密合性。[解决手段]阻隔膜具备：包含聚酯的基材和包含氧化铝的蒸镀膜。通过使用飞行时间二次离子质谱法从蒸镀膜侧对阻隔膜进行蚀刻，至少检测出元素键合Al₂O₃和元素键合CN。在基材与蒸镀膜的界面检测出的元素键合CN的峰的峰强度为元素键合Al₂O₃的强度的最大值的0.15倍以上。

技术领域

本发明涉及阻隔膜、层积体和包装产品。

背景技术

以往，在塑料等长条状的膜或片的基材上具备所形成的膜的层积膜被用于各种用途中。例如，正在开发一种阻隔膜，其在包含塑料膜的基材上设置由氧化铝等的薄膜构成的蒸镀膜，从而具有对于氧和水蒸气的阻隔性的功能。

作为制造这种阻隔膜的方法，例如如专利文献1中所公开的那样，已知：在通过蒸镀法在基材的表面形成氧化铝的膜时，使用等离子体等对基材进行表面处理，并在其上形成氧化铝的膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-177343号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的在于提供一种阻隔膜，其提高了蒸镀膜对于基材的密合性。

用于解决课题的手段

本发明涉及一种阻隔膜，其为具备包含聚酯的基材和包含氧化铝的蒸镀膜的阻隔膜，其中，通过使用飞行时间二次离子质谱法从上述蒸镀膜侧对上述阻隔膜进行蚀刻，至少检测出元素键合Al₂O₃和元素键合CN，在上述基材与上述蒸镀膜的界面检测出的上述元素键合CN的峰的峰强度为上述元素键合Al₂O₃的强度的最大值的0.15倍以上。

本发明的阻隔膜中，可以进一步具备位于上述蒸镀膜的面上的气体阻隔性涂布膜。

本发明的阻隔膜中，在上述基材与上述蒸镀膜的界面检测出的上述元素键合CN的峰的峰强度可以为上述元素键合Al₂O₃的强度的最大值的0.20倍以下。

本发明的阻隔膜中，上述蒸镀膜位于上述阻隔膜的表面，在上述基材与上述蒸镀膜的界面检测出的上述元素键合CN的峰的峰强度可以为上述元素键合Al₂O₃的强度的最大值的0.30倍以上。

本发明涉及一种层积体，其具备：上述所述的阻隔膜；和密封层。

本发明涉及一种包装产品，其具备上述所述的层积体。

发明的效果

根据本发明，能够提高蒸镀膜对于基材的密合性。

附图说明

图1是示出具备蒸镀膜的阻隔膜的一例的截面图。

图2是示出具备蒸镀膜和气体阻隔性涂布膜的阻隔膜的一例的截面图。

图3是示出使用飞行时间二次离子质谱法对图1所示的阻隔膜进行分析的结果的曲线分析图的一例的图。

图4是示出使用飞行时间二次离子质谱法对图2所示的阻隔膜进行分析的结果的曲线分析图的一例的图。

图5是示出本发明的实施方式的成膜装置的一例的图。

图6是示出成膜装置的等离子体前处理机构的一例的截面图。

图7是示出成膜装置的等离子体前处理机构的电极部和磁场形成部的一例的俯视图。