[发明专利]带防污层的透明基板有效
申请号: | 202080038851.9 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN113874334B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 盐田英史;竹田洋介;下坂鹰典 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C03C17/28 | 分类号: | C03C17/28;C03C17/42;B32B3/30;B32B17/06;G09F9/30;G02B1/18 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防污 透明 | ||
1.一种带防污层的透明基板,其具有透明基板和防污层,
所述防污层以最表层的形式设置在所述透明基板的一个主面上,
所述防污层具有-(OCF2)v(OCF2CF2)w-所示的2价基团,其中,v和w各自独立地为1以上的整数,
所述防污层的表面的要素的平均长度RSm与算术平均粗糙度Ra满足下式(I),
RSm≥Ra×100+5(I);
在具有配置于所述透明基板与所述防污层之间的防眩层的情况下,所述防眩层含有以二氧化硅为主成分的粘结剂。
2.根据权利要求1所述的带防污层的透明基板,其中,所述防污层的表面的偏度Rsk为-1.3~1.3。
3.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,利用下述方法而算出的所述防污层的氟剩余量为10~150,
氟剩余量的计算方法:
根据使用理学公司制的荧光X射线分析装置ZSX100e在下述条件下测得的所述带防污层的透明基板的所述防污层中的氟原子强度F1、以及利用擦拭纸擦拭所述带防污层的透明基板的所述防污层的表面后的所述带防污层的透明基板的所述防污层中的氟原子强度F2,通过下式(II)算出氟剩余量,所述擦拭纸为利用AGC公司制的注册商标ASAHICLEAN的AE-3000进行了湿润的擦拭纸,
氟剩余量=(F1-F2)/F2×100(II),
所述条件为:测定直径:30mm、测定射线:F-Kα、过滤器:OUT、狭缝:标准、分光晶体:理学公司制的RX35、检测器:PC、PHA:100-300、峰角度:20sec下为38.794deg.、B.G.角度:10sec下为43.000deg.。
4.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述w相对于所述v的比值为0.1~10。
5.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述算术平均粗糙度Ra为0.01~0.15μm。
6.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述带防污层的透明基板的雾度为0.1~15.0%。
7.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,在所述防污层的表面测得的60゜镜面光泽度为140%以下。
8.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述防污层表面的防眩性指标值为0.1以上。
9.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述透明基板为玻璃基板。
10.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其中,所述防污层是使用具有-(OCF2)v(OCF2CF2)w-所示的2价基团和反应性甲硅烷基团的化合物而形成的层,式中,v和w各自独立地为1以上的整数。
11.根据权利要求1或2所述的带防污层的透明基板,其为车载用途。
12.根据权利要求11所述的带防污层的透明基板,其为仪表盘用途。
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