[发明专利]分析装置

说明书

本发明提供分析装置，在从三个以上的光源向池照射光的分析装置中防止各光源的光量降低，所述分析装置具备：至少第一光源(121)、第二光源(122)以及第三光源(123)；以及将各光源(121～123)的光导向池(11)的光学系统(13)，光学系统(13)具备：第二光源用光学元件(E2)，对第一光源(121)的光进行反射，并且使第二光源(122)的光透过；以及第三光源用光学元件(E3)，对被第二光源用光学元件(E2)反射后的第一光源(121)的光以及透过第二光源用光学元件(E2)后的第二光源(122)的光进行反射，并且使第三光源(123)的光透过。

技术领域

本发明涉及使用了三个以上的光源的分析装置。

背景技术

以往，使用了激光器等光源的分析装置具备：测定池，为了测定试样中包含的多个成分，将试样收容于所述测定池；波长不同的多个激光器，向该测定池照射激光；以及光检测器，检测透过测定池后的光。

此时，为了使来自多个激光器的激光成为共同的光路并向测定池照射，使用双色镜等耦合光学元件。具体地说，在使用三个以上的激光器的构成的情况下，为了使光学系统小型化，设成以下的构成：将多个激光器以使光射出方向朝向相同方向的方式横向排列配置成直线状，在它们的光射出侧与多个激光器同样地将耦合光学元件配置在直线上。在这样的光学配置中，从一个激光器出来的激光，透过与另外的激光器对应设置的两个以上的耦合光学元件后向测定池照射。

但是，在上述的透过型的光学系统中，存在每当透过耦合光学元件时激光的光量降低的问题。另外，由于难以在宽频带中提高耦合光学元件的透过率，所以如果增加激光器的数量，则光量降低的问题变得显著。另外，为了防止耦合光学元件内的多重反射产生的杂散光的干扰的影响，在使用具有光楔的耦合光学元件的情况下，由于每当透过耦合光学元件时激光产生折射，所以如果增加耦合光学元件的数量，则光轴调整变得非常困难。

现有技术文献

专利文献1：日本专利公报专利第6255022号

发明内容

本发明要解决的技术问题

因此，本发明是为了解决上述问题点而做出，本发明的主要目的在于在从三个以上的光源向池照射光的分析装置中，防止各光源的光量降低。

用于解决技术问题的技术方案

即，本发明的分析装置，其特征在于，所述分析装置向导入有试样的池照射光，检测透过该池后的光，分析所述试样中包含的测定对象成分，所述分析装置具备：多个光源，至少包括第一光源、第二光源以及第三光源；以及光学系统，将各所述光源的光导向所述池，所述光学系统具备：第二光源用光学元件，对所述第一光源的光进行反射，并且使所述第二光源的光透过；以及第三光源用光学元件，对被所述第二光源用光学元件反射后的所述第一光源的光以及透过所述第二光源用光学元件后的所述第二光源的光进行反射，并且使所述第三光源的光透过。

根据本发明，由于第一光源的光不透过第二光源用光学元件以及第三光源用光学元件而被反射并被导向测定池，所以能够防止第一光源的光的光量降低。另外，第二光源的光只透过第二光源用光学元件，此后不透过第三光源用光学元件而被反射并被导向测定池，因此能够防止第二光源的光的光量降低。此外，第三光源的光只透过第三光源用光学元件并被导向测定池，因此能够防止第三光源的光的光量降低。这样，本发明不是透过型的光学系统，而是反射型的光学系统，因此能够防止来自各光源的光量降低，所述透过型的光学系统是从一个激光器出来的激光透过与其它的激光器对应设置的两个以上的光学元件后向测定池照射的光学系统，所述反射型的光学系统是从一个激光器出来的激光被与其它的激光器对应设置的光学元件反射后向测定池照射的光学系统。

另外，为了防止各光学元件内的多重反射产生的杂散光的干扰的影响，优选的是，使用具有光楔的光学元件，在该情况下，通过使光学系统为反射型的光学系统，各光源只透过一次光学元件，因此能够缓和光的折射导致的光轴调整的难度。