[发明专利]用于干涉仪装置的反射镜装置、干涉仪装置和用于制造反射镜装置的方法在审

专利信息
申请号: 202080034778.8 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN113785227A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: C·谢林;C·D·克莱默;R·勒德尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B5/08;G02B26/00;G01J3/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 梁冰;司昆明
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 干涉仪 装置 反射 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于干涉仪装置(10)的反射镜装置(1),其包括:

-上下平行地并且彼此相距反射镜层间距(d23)地布置的第一反射镜层(2)和第二反射镜层(3),其中,所述反射镜层间距(d23)在所述第一反射镜层和所述第二反射镜层(2、3)之间形成中间腔(5),并且其中,所述中间腔(5)包括气体或真空;

-至少一个至少部分地在所述第一反射镜层和所述第二反射镜层(2、3)之间延伸的间隔结构(4),并且其中,所述间隔结构(4)包括与所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层(2、3)相同或不同的材料。

2.根据权利要求1所述的反射镜装置(1),其中,所述间隔结构(4)包括侧壁(4a),所述侧壁与所述第一反射镜层和所述第二反射镜层(2、3)的平坦的延伸方向竖直地延伸,或以一定的角度偏离竖直方向延伸。

3.根据权利要求1或2所述的反射镜装置(1),其中,所述间隔结构(4)至少伸入到两个反射镜层(2、3)之一中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的反射镜装置(1),其中,所述间隔结构(4)包括在所述侧壁(4a)和底部(4c)之间的芯部(4b),其中,所述侧壁(4a)和所述底部(4c)包括与所述芯部(4b)不同的材料。

5.根据权利要求4的反射镜装置(1),其中,所述侧壁(4a)和所述底部(4c)包括电绝缘的材料。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的反射镜装置(1),其中,所述间隔结构(4)突出至少穿过两个反射镜层(2、3)之一,并且以至少所述反射镜层之一的厚度突出超过所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层(2、3)的外侧。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的反射镜装置(1),它包括多个间隔结构(4),在所述第二反射镜层(3)的平坦的顶面(3b)的俯视图中,所述间隔结构形成六边形的格栅。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的反射镜装置(1),其中,在内凹(A)下方和/或上方的区域中,所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层(2;3)在远离所述内凹(A)的方向上与所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层(2)的平坦的延伸方向竖直地突出。

9.一种干涉仪装置(10)包括:

-衬底(S);

-第一反射镜装置(SP1)和第二反射镜装置(SP2),其中,这些反射镜装置中的至少一个反射镜装置是根据权利要求1至8中任一项形成的,这些反射镜装置布置在所述衬底(S)上方,并且彼此相距第一间距(d12)地上下布置,其中,至少所述第一反射镜装置(SP1)布置成可相对于所述第二反射镜装置(SP2)移动;和

-致动装置,通过所述致动装置至少可移动所述第一射镜装置和/或所述第二反射镜装置。

10.一种用于制造反射镜装置(1)的方法,其包括以下步骤:

-提供(S1)第一牺牲层(O1)和/或衬底;

-将第一反射镜层(2)覆设(S2)到所述第一牺牲层(O1)和/或所述衬底上;

-将第二牺牲层(O2)覆设(S3)在所述第一反射镜层(2)上;

-至少在所述第二牺牲层(O2)中形成(S4)内凹(A),该内凹至少延伸至所述第一反射镜层(2);

-将用于间隔结构(4)的材料(4d)引入(S5)到所述内凹(A)中;

-将第二反射镜层(3)覆设(S6)到所述第二牺牲层(O2)上和所述内凹(A)上方;并且

-至少部分地去除(S7)所述第一牺牲层和/或所述第二牺牲层(O1;O2)。

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