[发明专利]杂环化合物以及包括其的有机发光装置在审
| 申请号: | 202080032732.2 | 申请日: | 2020-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN113795495A | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
| 发明(设计)人: | 李南晋;许柔珍;郑元场;金东骏 | 申请(专利权)人: | LT素材株式会社 |
| 主分类号: | C07D487/04 | 分类号: | C07D487/04;C07D498/04;C07D513/04;C07D519/00;C07F9/6561;H01L51/54;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
| 地址: | 韩国京畿道龙仁市处仁区南四面*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 杂环化合物 以及 包括 有机 发光 装置 | ||
1.一种杂环化合物,由以下化学式1表示:
[化学式1]
其中,在化学式1中,
X为O;S;或NRa;
R1至R8及Ra彼此相同或不同,并且各自独立地选自由氢;氘;卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiR11R12R13;-P(=O)R14R15;及-NR16R17组成的群组,或彼此相邻的二或更多个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的C6至C60芳族烃环或者经取代或未经取代的C2至C60杂环;
L1为直接键;经取代或未经取代的C6至C60亚芳基;经取代或未经取代的C2至C60亚杂芳基;或者经取代或未经取代的二价胺基;
Z1为卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiR11R12R13;-P(=O)R14R15;或-NR16R17;
R11至R17彼此相同或不同,且各自独立地为氢;卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;
m为0至4的整数,且当m为2或大于2时,二或更多个L1彼此相同或不同;且
n为1至5的整数,且当n为2或大于2时,二或更多个Z1彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中所述“经取代或未经取代的”意指经选自由C1至C60直链或支链烷基;C2至C60直链或支链烯基;C2至C60直链或支链炔基;C3至C60单环或多环环烷基;C2至C60单环或多环杂环烷基;C6至C60单环或多环芳基;C2至C60单环或多环杂芳基;-SiRR'R”;-P(=O)RR';C1至C20烷基胺;C6至C60单环或多环芳基胺;及C2至C60单环或多环杂芳基胺组成的群组中的一或多个取代基取代,或者未被取代,或经连接选自上述取代基中的二或更多个取代基的取代基取代,或者未被取代,且
R、R'及R”彼此相同或不同,且各自独立地为氢;卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基。
3.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化学式2至化学式4中的任一者表示:
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
在化学式2至4中,
X、m、n、L1及Z1具有与化学式1中相同的定义;
R21至R28彼此相同或不同,且为氢;或氘;
L2及L3彼此相同或不同,且各自独立地为直接键;经取代或未经取代的C6至C60亚芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60亚杂芳基;
Z2及Z3彼此相同或不同,且各自独立地为卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiR31R32R33;-P(=O)R34R35;或-NR36R37;
R31至R37彼此相同或不同,且各自独立地为氢;卤素基;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;
p及r是0至4的整数;且
q及s是1至5的整数。
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