[发明专利]用于平板显示器的大面积高密度等离子体处理腔室在审
| 申请号: | 202080032706.X | 申请日: | 2020-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN113811978A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
| 发明(设计)人: | 苏希尔·安瓦尔;吴玉伦;J·库德拉;卡尔·A·索伦森;吉万·普拉卡什·塞奎拉 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 平板 显示器 大面积 高密度 等离子体 处理 | ||
1.一种用于盖组件的板,所述板包括:
等离子体生成系统,所述等离子体生成系统包括平行地设置在所述板中的一个或多个腔,所述腔中的每一者包括:
用于多个介电板的凹槽,所述介电板中的每一者具有:
底表面,所述底表面能够操作以相对于第一压力取向;和
顶表面,所述顶表面能够操作以与所述底表面相对并且相对于第二压力取向,所述第二压力与所述第一压力不同;和
一个或多个线圈,所述一个或多个线圈定位在所述多个介电板上或在所述多个介电板上方;和
气体分配组件,所述气体分配组件包括第一扩散器,所述第一扩散器包括:
一个或多个第一扩散器入口,所述一个或多个第一扩散器入口设置在所述板中;和
多个第一通道,所述多个第一通道与所述第一扩散器入口中的至少一个第一扩散器入口流体连通,所述多个第一通道中的每个第一通道设置在所述板中并且与所述凹槽中的一个凹槽相邻。
2.如权利要求1所述的板,其中所述腔中的每一者的每个线圈被配置为连接到独立电源。
3.如权利要求2所述的板,其中每个线圈被配置为通过匹配电路连接到所述独立电源。
4.如权利要求1所述的板,其中每个线圈具有一匝或多匝。
5.如权利要求1所述的板,其中所述板包括含铝材料。
6.如权利要求1所述的板,其中所述介电板包括氧化铝(Al2O3)、氮化铝(AlN)、石英、二氧化锆(ZrO2)、氮化锆(ZrN)、石英和玻璃材料中的至少一种。
7.如权利要求1所述的板,其中所述气体分配组件进一步包括第二扩散器,所述第二扩散器包括:
一个或多个第二扩散器入口,所述一个或多个第二扩散器入口设置在所述板中;和
多个第二通道,所述多个第二通道与所述第二扩散器入口中的至少一个第二扩散器入口流体连通,所述多个第二通道中的每个第二通道在所述板中设置在相邻腔之间。
8.如权利要求1所述的板,其中所述板进一步包括:
流体入口和流体出口,所述流体入口和所述流体出口设置在所述板中,所述流体入口和所述流体出口能够耦接到热交换器;和
多个流体通道,所述多个流体通道与所述流体入口和所述流体出口流体连通,所述多个流体通道中的至少一者在所述板中设置在相邻腔之间。
9.如权利要求1所述的板,其中流量控制器能够耦接到所述第一扩散器入口中的每一者。
10.一种用于盖组件的板,所述板包括:
等离子体生成系统,所述等离子体生成系统包括平行地设置在所述板中的一个或多个腔,所述腔中的每一者包括:
用于多个介电板的凹槽;和
一个或多个线圈,所述一个或多个线圈定位在所述多个介电板上或所述多个介电板上方;和
气体分配组件,所述气体分配组件包括:
第一扩散器,所述第一扩散器包括设置在所述板中并且与多个第一通道流体连通的一个或多个第一扩散器入口;
第二扩散器,所述第二扩散器包括设置在所述板中并且与多个第二通道流体连通的一个或多个第二扩散器入口;其中:
所述第二通道中的每一者与所述第一通道中的每一者相交;并且
所述介电板中的每一者与相邻的第一通道相邻地设置并且与所述第二通道中的至少一个第二通道相邻地设置。
11.如权利要求10所述的板,其中流量控制器能够耦接到所述第一扩散器入口中的每一者,并且其中所述流量控制器能够耦接到所述第二扩散器入口中的每一者。
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