[发明专利]增材制造设备中的同轴熔池传感器中或与其相关的改进

权利要求书

1.一种对准增材制造设备中的同轴熔池传感器的方法，所述方法包括：使用第一光学链使第一激光束在工作表面上沿着第一扫描路径扫描，以沿着所述第一扫描路径生成熔池，以及使用第二光学链使同轴传感器的视场在所述工作表面上沿着第二扫描路径扫描，以用于操控第二激光束，其中，所述第一扫描路径和所述第二扫描路径相交，以及当所述视场被沿着所述第二扫描路径扫描时，根据由所述同轴传感器生成的信号的变化来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的光轴的对准有待进行的调整。

2.根据权利要求1所述的方法，包括调整所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的所述光轴的对准。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括在所述工作表面上的扫描方向上的改变。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括在第一方向上的扫描和在与所述第一方向正交的第二方向上的扫描。

5.根据权利要求3或权利要求4所述的方法，其中，所述第二扫描路径包括振荡扫描路径，诸如，正弦扫描路径。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法，其中，所述第二扫描路径在相同的位置开始和结束，例如，振荡扫描路径在诸如圆形路径等闭合轮廓上的重合。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一扫描路径是与所述第二扫描路径对称的。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一扫描路径和所述第二扫描路径是π异相的振荡扫描路径。

9.一种方法，包括：对于增材制造设备的多个光学链中的每一个光学链，使用根据权利要求1至8中任一项所述的方法将对应的同轴熔池传感器的视场与所述光学链对准。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，对于所述光学链中的两个或更多个光学链，用于确定所述同轴熔池传感器的所述视场的对准的所述第一激光束是相同的激光束。

11.一种用于通过激光熔融逐层制造物体的增材制造设备，所述增材制造设备包括：

第一光学链，所述第一光学链包括用于在工作表面上操控第一激光束的第一可移动光学部件；

第二光学链，所述第二光学链包括用于在所述工作表面上操控第二激光束的第二可移动光学部件；

同轴熔池传感器，所述同轴熔池传感器用于检测由熔池发射并由所述第二光学链的所述第二可移动光学部件收集的辐射；以及

控制器，所述控制器布置成控制所述第一光学链和所述第二光学链的所述第一可移动部件和所述第二可移动部件，从而使用所述第一光学链使所述第一激光束在所述工作表面上沿着第一扫描路径扫描以沿着所述第一扫描路径生成熔池、使用所述第二光学链使所述同轴传感器的视场在所述工作表面上沿着第二扫描路径扫描，

其中，所述第一扫描路径和所述第二扫描路径相交并且当所述视场被沿着所述第二扫描路径扫描时根据由所述同轴传感器生成的信号的变化来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的光轴的对准有待进行的调整。

12.根据权利要求11所述的增材制造设备，包括第三光学链，所述第三光学链包括用于在所述工作表面上操控第三激光束的第三可移动光学部件，

所述控制器布置成：使用所述第三光学链使所述第三激光束在工作表面上沿着第三扫描路径扫描，以沿着所述第三扫描路径生成熔池，并且使用所述光学链中的所述第二光学链使所述同轴传感器的所述视场在所述工作表面上沿着第四扫描路径扫描，其中，所述第三扫描路径和所述第四扫描路径相交，并且当所述视场被沿着所述第二扫描路径和所述第四扫描路径扫描时，根据由所述同轴传感器生成的所述信号的变化来确定对所述同轴传感器的所述视场与所述第二光学链的所述光轴的对准有待进行的调整。