[发明专利]借由平版印刷来保护和增强热屏障涂层完整性在审
| 申请号: | 202080027450.3 | 申请日: | 2020-03-30 | 
| 公开(公告)号: | CN113661272A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 | 
| 发明(设计)人: | L·L·施瓦布;K·B·莫雷 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 | 
| 主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;F01D5/14;F01D5/28;C23C18/12 | 
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 | 
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 平版印刷 保护 增强 屏障 涂层 完整性 | ||
1.一种用于保护组件的表面上的涂层的方法,所述方法包括以下步骤:
用陶瓷浆液涂覆所述组件的至少一部分;
利用光刻工艺将光的图案投影到所述组件上以暴露和固化陶瓷层;
从所述组件去除所述陶瓷浆液的未暴露部分;并且
其中所述陶瓷层包括多个应力升高元件或多个锚固元件。
2.根据权利要求1所述的方法,所述涂覆步骤还包括使用所述陶瓷浆液涂覆粘结涂层。
3.根据权利要求2所述的方法,还包括:
在所述粘结涂层和所述陶瓷层上施加热屏障涂层。
4.根据权利要求3所述的方法,还包括:
加热所述组件以烧结所述陶瓷层和所述热屏障涂层中的至少一者。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个应力升高元件或多个锚固元件具有矩形、梯形或燕尾形状。
6.根据权利要求1所述的方法,还包括:
重复所述涂覆、所述投影和所述去除步骤,直到获得所需数量的陶瓷层。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述组件为被构造成与气体涡轮一起使用的叶片、喷嘴、燃烧器、过渡件或护罩。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述光刻工艺为以下中的一者:
光刻法、光学平版印刷或紫外平版印刷。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述光刻工艺为掩模工艺或无掩模工艺。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述陶瓷浆液包括以下中的至少一者:
氧化锆、氧化铝、二氧化硅、碳化物、氮化物、硅酸盐或它们的组合。
11.一种用于保护组件的表面上的涂层的方法,所述组件由多个层形成,其中所述层中的一个层为粘结涂层,所述方法包括以下步骤:
使用陶瓷浆液涂覆所述粘结涂层;
利用光刻工艺将光的图案投影到所述组件上以暴露和固化陶瓷层;
从所述组件去除所述陶瓷浆液的未暴露部分;并且
其中所述陶瓷层包括多个应力升高元件或多个锚固元件。
12.根据权利要求11所述的方法,还包括:
在所述粘结涂层和所述陶瓷层上施加热屏障涂层。
13.根据权利要求12所述的方法,还包括:
加热所述组件以烧结所述陶瓷层和所述热屏障涂层中的至少一者。
14.根据权利要求13所述的方法,其中所述多个应力升高元件或多个锚固元件具有矩形、梯形或燕尾形状。
15.根据权利要求11所述的方法,还包括:
重复所述涂覆、所述投影和所述去除步骤,直到获得所需数量的陶瓷层。
16.根据权利要求11所述的方法,其中所述组件为被构造成与气体涡轮一起使用的叶片、喷嘴、燃烧器、过渡件或护罩。
17.根据权利要求11所述的方法,其中所述组件为被构造成与气体涡轮一起使用的护罩。
18.根据权利要求11所述的方法,其中所述光刻工艺为以下中的一者:
光刻法、光学平版印刷或紫外平版印刷。
19.根据权利要求18所述的方法,其中所述光刻工艺为掩模工艺或无掩模工艺。
20.根据权利要求11所述的方法,其中所述陶瓷浆液包括以下中的至少一者:
氧化锆、氧化铝、二氧化硅、碳化物、氮化物、硅酸盐或它们的组合。
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